詳細摘要： SAMCO等離子刻蝕機RIE-300NR是一種理想的反應離子蝕刻系統(tǒng)，適用于加工?300mm晶圓和多晶圓（?3"×12，?4"×8等），具有優(yōu)異的均勻性
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-12 在線留言
青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細摘要： SAMCO等離子刻蝕機RIE-300NR是一種理想的反應離子蝕刻系統(tǒng)，適用于加工?300mm晶圓和多晶圓（?3"×12，?4"×8等），具有優(yōu)異的均勻性
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詳細摘要： RIE等離子蝕刻系統(tǒng)RIE-200NL是一種負載鎖定型的反應離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復性，并允許腐蝕性氣體化學
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詳細摘要： RIE-200C是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCPRIE系統(tǒng)"RIE-10NR"的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)
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詳細摘要： SAMCOICP刻蝕機RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進行各種材料的超精細加工的負載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)
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詳細摘要： SAMCO二手現(xiàn)貨ICP刻蝕機RIE-400iP是用于?4"晶圓的負載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，可對各種半導體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工
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詳細摘要： SAMCOICP-RIE等離子體蝕刻設(shè)備RIE-800iP是一種能夠產(chǎn)生高密度等離子體的ICP（感應耦合等離子體）蝕刻系統(tǒng)
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詳細摘要： SAMCOICP刻蝕設(shè)備RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備，可處理多達?350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理
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詳細摘要： SAMCO深硅刻蝕設(shè)備RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工
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詳細摘要： SAMCO深硅刻蝕系統(tǒng)RIE-800BCT是使用電感耦合等離子體作為放電形式的生產(chǎn)型硅DRIE系統(tǒng)
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詳細摘要： SAMCO深硅蝕刻設(shè)備RIE-802BCT是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個反應室的量產(chǎn)用硅深孔系統(tǒng)
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詳細摘要： SAMACOICP蝕刻設(shè)備RIE-800iPC，具有優(yōu)良工藝再現(xiàn)性的生產(chǎn)設(shè)備它是一種使用感應耦合等離子體作為放電類型的高密度等離子體蝕刻設(shè)備
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詳細摘要： SAMCO二手翻新ICP刻蝕機RIE-400iPC，是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)，采用電感耦合等離子體作為放電形式
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詳細摘要： TEL/TOKYOELECTRON氧化物刻蝕系統(tǒng)TE8500采用VEXTA5相驅(qū)動器，針對8英寸晶圓的可是處理
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詳細摘要： TEL/TOKYOELECTRON二手翻新現(xiàn)貨刻蝕機TELIUSSP305SCCMTE，針對于12英寸的晶圓進行刻蝕處理，采用接觸式刻蝕作業(yè)方式，可4個腔室同時...
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詳細摘要： LAMRESEARCH刻蝕機4400二手設(shè)備現(xiàn)貨供應，針對6英寸晶圓進行刻蝕處理
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詳細摘要： LAMRESEARCH二手翻新刻蝕機4500，針對6英寸晶圓的氧化刻蝕設(shè)備
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詳細摘要： AMATAPPLIEDMATERIALS刻蝕機CENTURADPSG5生產(chǎn)于2008年，針對12英寸的晶圓進行刻蝕作業(yè)
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詳細摘要： AMATAPPLIEDMATERIALS二手刻蝕機CENTURAMXP+生產(chǎn)與1997年，針對8英寸的晶圓進行氧化刻蝕處理
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詳細摘要： LamResearchRainbow4520刻蝕系統(tǒng)是一個單晶圓
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詳細摘要： LAMRESEARCH二手刻蝕設(shè)備4528，現(xiàn)貨封裝完畢，針對于200mm晶圓進行刻蝕處理
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-11 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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