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二手翻新佳能i線步進式光刻機FPA-8000iW

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更新時間：2022-05-27 11:42:49瀏覽次數(shù)：269次

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產(chǎn)品簡介

二手翻新佳能i線步進式光刻機FPA-8000iW處理515*510mm的大型面板基板，可實現(xiàn)大封裝PLP生產(chǎn)，同時具備1.0μm的分辨率，高效靈活

詳細(xì)介紹

二手翻新佳能i線步進式光刻機FPA-8000iW處理515*510mm的大型面板基板，可實現(xiàn)大封裝PLP生產(chǎn)，同時具備1.0μm的分辨率，高效靈活。

特征和優(yōu)勢

i-line stepper "FPA-8000iW" 適用于 515 x 510mm 的大型面板基板

寬曝光范圍（52 毫米 x 68 毫米或 55 毫米 x 55 毫米）。
1.0 μm 的高分辨率可在寬廣的曝光范圍內(nèi)使用。
高分辨率和寬曝光范圍相結(jié)合，為半導(dǎo)體封裝提供了高生產(chǎn)率和進一步小型化、更大的器件尺寸和降低成本。

支持在大型基板上進行高效封裝

針對使用面板基板的封裝工藝，佳能開發(fā)了一種新的步進平臺，能夠處理大型 515 x 510 毫米面板基板。嚴(yán)重的翹曲在大型面板基板中也很常見，新的平臺和面板進給系統(tǒng)可以克服高達(dá) 10 毫米的面板翹曲。因此，F(xiàn)PA-8000iW 可以幫助客戶實現(xiàn)大封裝 PLP 生產(chǎn)的高生產(chǎn)率和高效率。

實現(xiàn) 1.0 μm 的分辨率，可實現(xiàn)高級封裝

佳能的投影光學(xué)系統(tǒng)支持 52 x 68 mm 的寬廣曝光范圍，同時實現(xiàn)了 1.0 μm 的分辨率，這是支持面板基板工藝的封裝曝光系統(tǒng)中分辨率的。因此，面板級封裝等*封裝技術(shù)可以進行創(chuàng)新，為電子系統(tǒng)設(shè)計提供高集成度和靈活性。

二手翻新佳能i線步進式光刻機FPA-8000iW

規(guī)格參數(shù)

解析度: ≦ 1.0 µm

NA（數(shù)值孔徑）: 0.24-0.12（可變）

減速比: 1:2

字段大小: 52 毫米 x 68 毫米或 55 毫米 x 55 毫米

曝光波長: i 線 365 納米

光罩尺寸: 6英寸

基板尺寸: 可加工實際尺寸 515 x 510 mm（：515 x 515 mm）

疊加精度: ≦ 200 納米

主體尺寸: (W) 3,000 × (D) 4,800 × (H) 2,700 毫米

主要選項: PC 遠(yuǎn)程控制臺
翹曲面板處理選項（真空輔助裝置）
抗排氣裝置 Pellicle
Particle Checker

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特征和優(yōu)勢

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