詳細(xì)摘要： 團(tuán)隊(duì)介紹ASML和NIKON光刻機(jī)的翻新改造、安裝調(diào)試及維護(hù)的核心技術(shù)能力
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青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： 團(tuán)隊(duì)介紹ASML和NIKON光刻機(jī)的翻新改造、安裝調(diào)試及維護(hù)的核心技術(shù)能力
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詳細(xì)摘要： NSR-S622DArF浸沒式掃描儀是通過進(jìn)一步提高已驗(yàn)證的流線平臺(tái)的準(zhǔn)確性和生產(chǎn)力，用于20nm以下的高容量多模式應(yīng)用
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詳細(xì)摘要： NSR-S635EArF浸入式光刻機(jī)，集成內(nèi)聯(lián)對(duì)準(zhǔn)站(iAS)，用于大容量5nm節(jié)點(diǎn)應(yīng)用程序制造
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詳細(xì)摘要： 尼康公司（東京港區(qū)總裁KazuoUshida）發(fā)布了一代尼康A(chǔ)rF浸入式掃描儀NSR-S631E
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詳細(xì)摘要： NikonARF浸入式光刻機(jī)NSR-S630D進(jìn)一步提高了NSR-S622D的精度和生產(chǎn)率，它采用了以高精度和生產(chǎn)率著稱的流線型平臺(tái)，適用于10納米范圍內(nèi)的工藝...
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詳細(xì)摘要： NSR-S621D已開發(fā)用于大批量制造22nm工藝節(jié)點(diǎn)（能夠通過進(jìn)一步提高久經(jīng)考驗(yàn)的NSR-S620D的精度和生產(chǎn)率來處理雙圖案*1)
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詳細(xì)摘要： NSR-S320F的平臺(tái)在尼康的浸入式掃描儀中得到驗(yàn)證，確保在客戶領(lǐng)域及早實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定運(yùn)行和高生產(chǎn)率
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詳細(xì)摘要： 尼康基于開創(chuàng)性的Streamlign平臺(tái)開發(fā)了NSR-S620D，不僅可以實(shí)現(xiàn)32nm的雙圖案光刻，還可以為下一代應(yīng)用提供可擴(kuò)展性
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詳細(xì)摘要： NikonKrF掃描光刻機(jī)NSR-S210D產(chǎn)能達(dá)到176wph
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詳細(xì)摘要： NSR-SF155i線步進(jìn)器適用于生產(chǎn)各種半導(dǎo)體器件
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詳細(xì)摘要： 尼康Nikonarf光刻機(jī)NSR-S610C，生產(chǎn)于2006年，分辨率小于等于45nm
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詳細(xì)摘要： 尼康Nikoni-line步進(jìn)式光刻機(jī)NSR-SF140生產(chǎn)于2005年，分辨率≤280nm
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詳細(xì)摘要： NSR-S609B（分辨率≦55nm），用于大批量生產(chǎn)的ArF浸入式掃描儀，NA1.07（一臺(tái)突破NA1.0閾值的掃描儀）2006年，NikonNSR-S609...
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詳細(xì)摘要： 尼康NikonKrF光刻機(jī)NSR-S208D生產(chǎn)于2004年，分辨率≤110nm，產(chǎn)能達(dá)到140wph
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詳細(xì)摘要： 尼康Nikon光刻機(jī)NSR-S308F
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詳細(xì)摘要： 尼康Nikoni-line光刻機(jī)NSR-SF130生產(chǎn)于2005年，NA為0.62，分辨率不大于280nm
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詳細(xì)摘要： 尼康NikonArF光刻機(jī)NSR-S307E生產(chǎn)于2003年，分辨率80nm，采用193nmARF曝光光源
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詳細(xì)摘要： 尼康NikonKrF光刻機(jī)NSR-S206D生產(chǎn)于2002年，分辨率110nm
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詳細(xì)摘要： 尼康NikonArF光刻機(jī)NSR-S306C，分辨率100nm，生產(chǎn)于2001年
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詳細(xì)摘要： NikonKrF光刻機(jī)NSR-S205C于2000年在新加坡生產(chǎn)，分辨率≤120nm
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-17 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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