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佳能 i-line步進器光刻機FPA-3030iWa

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更新時間：2023-04-16 07:43:14瀏覽次數(shù)：320次

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青島佳鼎分析儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

FPA-3030iWa支持直徑為200毫米或更小的較小基板

詳細介紹

FPA-3030iWa 支持直徑為 200 毫米或更小的較小基板。

支持從 50 毫米（2 英寸）到 200 毫米（8 英寸）的各種晶圓尺寸。

FPA-3030 平臺自發(fā)布以來已在市場客戶中展示了高可靠性。

可提供 52mm x 52mm 的寬曝光范圍。

佳能i-line步進式光刻機FPA-3030iWa

支持制造各種設(shè)備及其工藝的廣泛需求

具有 0.16 至 0.24 范圍內(nèi)的可變數(shù)值孔徑 (NA) 的 52 mm x 52 mm 寬視場投影鏡頭可提供大焦深 (DOF) 并實現(xiàn)高精度曝光和高均勻度線寬圖案的創(chuàng)建。

支持各種不同的晶圓尺寸和材料

FPA-3030iWa 可以配備一個處理系統(tǒng)，可以選擇從 50 毫米（2 英寸）到 200 毫米（8 英寸）的晶圓直徑，以支持各種不同的化合物半導(dǎo)體晶圓尺寸和材料。

采用具有增強穩(wěn)健性的離軸對準范圍

FPA-3030iWa 采用離軸對準范圍，通過不通過投影鏡頭的光路測量晶圓對準標記。這允許離軸對準系統(tǒng)使用廣泛的對準照明波長，提供穩(wěn)健的對準過程優(yōu)化。

通過新設(shè)計的硬件和軟件提高吞吐量

系統(tǒng)更新使 FPA-3030iWa 與新選項兼容，包括支持翹曲和透明晶圓工藝（如碳化硅）的晶圓轉(zhuǎn)移功能和允許同時進行 X 和 Y 對準標記測量以提高步進生產(chǎn)率的對準系統(tǒng)選項。

參數(shù)規(guī)格

Resolution: ≦ 0.8 µm

NA (Numerical Aperture): 0.24-0.16 (Variable)

Reduction Ratio: 1:2

Field Size: 52mm x 52mm

Exposure Wavelength: i-Line 365nm

Reticle Size: 6inch

Wafer Size: 50mm(2inch) / 75mm(3inch) / 100mm(4inch) / 150mm(6inch) / 200mm(8inch) (Selection)

Overlay Accuracy: ≦ 100nm

Main Body Dimensions: (W) 1,900× (D) 2,600× (H) 2,450mm

Major Options: Wafer handling Kit for Special Substrates
PC Remote Console
GEM-compliant online software
Pellicle particle Checker

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佳能 i-line步進器光刻機FPA-3030iWa