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詳解磁控濺射技術(shù)2023/3/22
一、磁控濺射的工作原理:磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射的工作原理是:在高真空的條件下充入適量的...
NRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)有什么優(yōu)勢(shì)2022/7/28
我們的優(yōu)勢(shì)|NRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng),用于高速刻蝕硅、SiO2和Si3N4基片,通過(guò)配套HCP高密度中空陰極等離子源,系統(tǒng)可以支持...
NLD4000型原子層沉積案例解析2022/7/25
NANO-MASTERNLD-4000型等離子增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)可以提供高品質(zhì)的薄膜沉積,通過(guò)配套ICP離子源系統(tǒng)可以支持PEALD和T-ALD等廣泛應(yīng)用。眾多的優(yōu)勢(shì)配置,使得NLD-4000型系統(tǒng)具...
我們的優(yōu)勢(shì)|離子束刻蝕2022/7/25
我們的優(yōu)勢(shì)|離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強(qiáng)的適應(yīng)性,可以根據(jù)不同的應(yīng)用建立不同的結(jié)構(gòu),不同的樣品臺(tái)和離子源配置可實(shí)現(xiàn)不同的應(yīng)用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺(tái)可實(shí)現(xiàn)正負(fù)90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水...
帶你一文領(lǐng)略磁控濺射2022/7/25
主要功能:主要用于半導(dǎo)體應(yīng)用,及各種需要進(jìn)行微納工藝濺射鍍膜的情形。可以用于金屬材料(金、銀、銅、鎳、鉻等)的直流濺射、直流共濺射,絕緣材料(如陶瓷等)的射頻濺射,以及反應(yīng)濺射能力?;芍С止杵?,氧...

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