詳細(xì)摘要: 刻膠(resist)概 述光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resis...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-08-02 在線留言深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
詳細(xì)摘要: 刻膠(resist)概 述光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resis...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-08-02 在線留言詳細(xì)摘要: 特點(diǎn):? 紫外負(fù)膠(厚膠),適用于 LIGA 及 MEMS應(yīng)用? 涂膠厚度 10μm@1000rpm, 可提供更高厚度(200μm)? SX AR-N 4600...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-08-02 在線留言詳細(xì)摘要: 特點(diǎn):? 用于耐刻蝕工藝、電鍍、LIGA、MEMS等? 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-bea...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-08-02 在線留言詳細(xì)摘要: 特點(diǎn):? 用于消除電子束曝光、SEM成像、FIB等工藝中的荷電效應(yīng)? 通過旋涂的方式涂膠,操作簡(jiǎn)單? 涂膠厚度:40nm @ 4000rpm? 電子束曝光后可溶...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-08-02 在線留言詳細(xì)摘要: 特點(diǎn):? 用于高靈敏度電子束曝光、混合曝光等? 感光波段:e-beam、deep UV(248 nm)? 紫外曝光波段: 負(fù)膠:248nm~265nm & 29...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-08-02 在線留言詳細(xì)摘要: 點(diǎn):? 耐酸堿保護(hù)膠? 不含光敏物質(zhì),無需黃光室? 在40% KOH或50% HF酸中可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定? 通過雙層工藝可實(shí)現(xiàn)正性(AR-P 3250) 或負(fù)性(AR...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-08-02 在線留言詳細(xì)摘要: PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是一種通用的聚合材料,適用于許多成像和非成像微電子系統(tǒng)。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中,曝光會(huì)導(dǎo)致...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: ZEP530A是一種非化學(xué)放大型正型電子束光刻膠,具有優(yōu)異的分辨率和耐干蝕刻性以及寬的工藝參數(shù)。
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: AZ ® ECI 3000系列是現(xiàn)代的一種正性光刻膠系列。
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: AZ ?111 XFS光刻膠對(duì)所有的表面均有著優(yōu)異的粘附性能。該光刻膠的起源可追溯到1964年的AZ ?111,它是用于通用接觸式印刷用途的商業(yè)正性光刻膠之一。...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: AZ ® 4500系列(AZ ® 4533和AZ ® 4562)是正性厚光刻膠,在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能.
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: AZ?40 XT的應(yīng)用始于15-30 μm,在這個(gè)厚度范圍時(shí),由于N2脫氣和再水化延遲時(shí)間,使用常規(guī)正性光刻膠的光刻工藝變得非常耗時(shí),而AZ?40 XT可以避免...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: TFP 650 F5 光刻膠適用于對(duì)附著力要求及蝕刻條件要求苛刻的旋涂和擠壓涂層條件的應(yīng)用。
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: MicroChem SU-8光刻膠是一種基于環(huán)氧SU-8樹脂的環(huán)氧型的、近紫外負(fù)性光刻膠,該系列光刻膠性能優(yōu)良,主要用于厚襯底上需要高深寬比時(shí)的應(yīng)用??蓪?duì)近紫外...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: AZ?nLOF 5110是一種薄的高分辨率負(fù)型光刻膠,具有很高的熱穩(wěn)定性。該光刻膠用于單層剝離工藝以及RIE蝕刻或離子注入,并且與基于TMAH的顯影劑兼容。使用...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: Futurrex 厚膠負(fù)性光刻膠NR5-8000 NR26-12000P
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: AZ?125 nXT是一種交聯(lián)的負(fù)性光刻膠,膜厚度可達(dá)100 μm,甚至更高(可實(shí)現(xiàn)1 mm的光刻膠膜厚度),具有標(biāo)準(zhǔn)的參數(shù)和非常陡峭的側(cè)壁。 AZ?125 n...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: Futurrex 刻蝕工藝負(fù)性光刻膠NR7-250P NR9-1000P.
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: DOW陶氏 顯影液MF-20A MF-300系列MF-26A MF-319
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言詳細(xì)摘要: PMGI 0.25µm),以及很厚( 4µm)金屬化。這些的性能適用于多種材料,可滿足客戶的各種需要。
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2022-07-31 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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