詳細摘要： Xevo TQ-S為最嚴苛的UPLC/MS/MS定量應用而設(shè)計。串聯(lián)四極桿質(zhì)譜儀的性能讓使用Xevo 平臺的所有人獲得的靈敏度和穩(wěn)定性。
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時間：2022-07-31 在線留言深圳市科時達電子科技有限公司
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詳細摘要： Xevo TQ-S為最嚴苛的UPLC/MS/MS定量應用而設(shè)計。串聯(lián)四極桿質(zhì)譜儀的性能讓使用Xevo 平臺的所有人獲得的靈敏度和穩(wěn)定性。
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詳細摘要： QSight三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用儀具有自清潔功能的設(shè)計，減少對日常維護的需求。與其他質(zhì)譜產(chǎn)品相比，可獲得更多的儀器運行時間（35天/年）。采用雙離子源的設(shè)計，避免...
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詳細摘要： WIGGENS 離心機全部由德國OEM 工廠按照設(shè)計要求定制生產(chǎn)。德國工廠具有30多年專業(yè)生產(chǎn)離心機和其它生物科學產(chǎn)品的經(jīng)驗，擁有多項相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的。WIGGE...
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詳細摘要： 多功能酶標儀 SpectraMax i3x 除了具有全波長光吸收、全波長熒光、全波長化學發(fā)光檢測功能以外，還兼容了模塊化升級功能，可以隨著您未來需求的變化，滿足...
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詳細摘要： Eppendorf5810/5810 R 離心機以其一貫品質(zhì)和可靠性能，為您中等到高通量離心提供解決方案。5810/5810 R 離心機不僅具有功能多和容量大的...
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詳細摘要： 從實驗室到生產(chǎn)車間，Sonoscan的*聲學顯微鏡儀器和技術(shù)可以幫助您生產(chǎn)高質(zhì)量的產(chǎn)品。Sonoscan儀器有著高技術(shù)含量，并且提供良好的客戶服務和支持。Son...
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詳細摘要： D9650和上一代產(chǎn)品一樣提供了良好的精度和穩(wěn)健性，增加了一個合并了PolyGate技術(shù)和Sonolytics的改進型的電子與軟件平臺。D9650是理想的用于失...
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詳細摘要： PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統(tǒng)。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會導致...
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詳細摘要： ZEP530A是一種非化學放大型正型電子束光刻膠，具有優(yōu)異的分辨率和耐干蝕刻性以及寬的工藝參數(shù)。
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詳細摘要： AZ ® ECI 3000系列是現(xiàn)代的一種正性光刻膠系列。
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詳細摘要： AZ ?111 XFS光刻膠對所有的表面均有著優(yōu)異的粘附性能。該光刻膠的起源可追溯到1964年的AZ ?111，它是用于通用接觸式印刷用途的商業(yè)正性光刻膠之一。...
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詳細摘要： AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）是正性厚光刻膠，在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能.
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詳細摘要： AZ?40 XT的應用始于15-30 μm，在這個厚度范圍時，由于N2脫氣和再水化延遲時間，使用常規(guī)正性光刻膠的光刻工藝變得非常耗時，而AZ?40 XT可以避免...
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詳細摘要： TFP 650 F5 光刻膠適用于對附著力要求及蝕刻條件要求苛刻的旋涂和擠壓涂層條件的應用。
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詳細摘要： MicroChem SU-8光刻膠是一種基于環(huán)氧SU-8樹脂的環(huán)氧型的、近紫外負性光刻膠，該系列光刻膠性能優(yōu)良，主要用于厚襯底上需要高深寬比時的應用?？蓪贤?..
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詳細摘要： AZ?nLOF 5110是一種薄的高分辨率負型光刻膠，具有很高的熱穩(wěn)定性。該光刻膠用于單層剝離工藝以及RIE蝕刻或離子注入，并且與基于TMAH的顯影劑兼容。使用...
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詳細摘要： AZ?125 nXT是一種交聯(lián)的負性光刻膠，膜厚度可達100 μm，甚至更高（可實現(xiàn)1 mm的光刻膠膜厚度），具有標準的參數(shù)和非常陡峭的側(cè)壁。 AZ?125 n...
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詳細摘要： Futurrex 刻蝕工藝負性光刻膠NR7-250P NR9-1000P.
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