詳細摘要： 波誘導(dǎo)式等離子芯片開封系統(tǒng) ---- PlasmaEtch無論是傳統(tǒng)的金線樣品，還是樣品都采用銅線或銀線，PlasmaEtch都能提供安全可靠的蝕刻。
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時間：2022-08-01 在線留言深圳市科時達電子科技有限公司
深圳市科時達電子科技有限公司
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詳細摘要： 波誘導(dǎo)式等離子芯片開封系統(tǒng) ---- PlasmaEtch無論是傳統(tǒng)的金線樣品，還是樣品都采用銅線或銀線，PlasmaEtch都能提供安全可靠的蝕刻。
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詳細摘要： 激光開封技術(shù)也可以在不破壞芯片或者電路的整體功能的前提下，去除局部的塑封材料，進行測試甚至修復(fù)實驗。與化學(xué)開封技術(shù)相比，激光開封更加高效，同時避免了減少強酸環(huán)境...
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詳細摘要： BASIXX ST20+（?200毫米）臺式旋涂機，帶電動介質(zhì)臂BASIXX ST20（?200毫米）臺式旋涂機BASIXX ST20+實驗室臺式勻膠機是一款緊...
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詳細摘要： M-Spin 200勻膠旋涂儀是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑為8英寸的晶圓片，或為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作，...
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詳細摘要： 勻膠機產(chǎn)品特點:1、穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速和快 速啟動，可保證膠厚度的一 致性和均勻性；2、轉(zhuǎn)速在12000轉(zhuǎn)/分范圍內(nèi)穩(wěn)定，美國國家標準 技 術(shù)研究院（NIST）認 證過...
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詳細摘要： 涂是一種廣泛使用的多功能技術(shù)，用于將材料沉積到基材上，從而獲得精確可控的薄膜厚度。該款勻膠旋涂儀價格實惠，操作簡單，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想...
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詳細摘要： Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域*的者，我們專為實...
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詳細摘要： Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域*的*，我們專為實...
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詳細摘要： 勻膠顯影機(英文名：Developing) 產(chǎn)地：美國一、產(chǎn)品概述：650型勻膠顯影機適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
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詳細摘要： M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑為8英寸的晶圓片或6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數(shù)（溫度，加熱...
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詳細摘要： 適用于3英寸晶圓的劃片劃片機 100是一款的設(shè)備，設(shè)計用于劃分精密模具，例如GaAs和硅芯片。劃片機 100非常靈活，使用劃線和斷裂順序，使成品模具保持清潔，不...
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詳細摘要： 原子層沉積（Atomic layer deposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但...
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詳細摘要： 紫外臭氧清洗工作原理：清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或...
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詳細摘要： 這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計。
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詳細摘要： P200L半自動探針臺?200毫米半自動晶圓探針臺 。
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詳細摘要： 真空快速退火爐AS-OneAS-One是一種通用的RTP系統(tǒng)，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝?？梢源钆浞肿颖脤崿F(xiàn)高真空下熱處理工藝。溫度1500 ℃，升...
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詳細摘要： 品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號：NXQ400-8產(chǎn)地：美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性...
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詳細摘要： 品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號：NXQ800-6產(chǎn)地：美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，N&Q8000系列光刻機是以自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，...
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詳細摘要： Dymax 5000-EC 系列紫外光固化面光源適用于固化光強需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。
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詳細摘要： PicoMaster 200無掩模激光直寫光刻機●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業(yè)界實力的成套全息設(shè)...
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