岱美儀器技術服務（上海）有限公司
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所 在 地上海
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更新時間：2026-07-20 10:19:03瀏覽次數(shù)：575次
聯(lián)系我時，請告知來自 儀表網1.簡介我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化
1. 簡介
我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車削或直接寫入方法，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
2. 主要應用
主要使用連續(xù)重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作（例如：微鏡頭制作）。
3. 特色
EVG770的主要功能包括精確的對準功能，全緬的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。
4. 參數(shù)特征
1）高效的晶圓級光學微透鏡主制造，直至SmartNIL的納米結構®
2）簡單實施不同類型的主機
3）可變抗蝕劑分配模式
4）分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
5）用于壓印和脫模的原位力控制
6）可選的光學楔形誤差補償
7）可選的自動盒帶間處理
5. EVG770技術數(shù)據(jù)
1）晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米
2）解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
3）支持的工藝：軟UV-NIL納米壓印
4）曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2
5）對準：頂面顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm
6）弟一個印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
7）有效印記區(qū)域：長達50 x 50毫米
8）自動分離：支持
9）預處理功能：涂層：液滴分配（可選）
6. 納米壓印工藝結果
圖1 微鏡頭
圖2 納米壓印結果（100納米分辨率）
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