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ICP增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（ICP-CVD）

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品       牌

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所  在  地深圳市

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更新時(shí)間：2023-01-14 07:50:44瀏覽次數(shù)：940次

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商鋪產(chǎn)品：73條

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聯(lián)系人：瞿經(jīng)理

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(ICPChemicalVaporDeposition,ICPVD)利用ICP線圈將反應(yīng)氣體高度離化，是的CVD可以在高溫下實(shí)現(xiàn)一些特殊材料的沉積

詳細(xì)介紹

電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(ICP Chemical Vapor Deposition, ICPVD)利用ICP線圈將反應(yīng)氣體高度離化，是的CVD可以在高溫下實(shí)現(xiàn)一些特殊材料的沉積。該產(chǎn)品需根據(jù)用戶的應(yīng)用需求定制，目前定制的產(chǎn)品成功制備出直立生長(zhǎng)石墨烯，而且可以通過(guò)工藝控制材料的生長(zhǎng)狀態(tài)。這種石墨烯在催化，場(chǎng)發(fā)射領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。


技術(shù)參數(shù)：
1 基片尺寸2～6 英寸；
2 加熱溫度 900℃；
3 最多可拓展6路工藝氣體；
4 可選快速傳樣腔體；

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