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熱絲輔助化學(xué)氣相沉積（HWCVD／HW-PECVD）

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更新時(shí)間：2023-01-14 07:55:33瀏覽次數(shù)：570次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(HotWireAssistedChemicalVaporDeposition,HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進(jìn)行薄膜化學(xué)氣相沉積，適合做高溫的結(jié)晶材料，加熱絲輔助的同時(shí)還可以利用等離子體增強(qiáng)線圈進(jìn)一步輔助，從而提高制備出來(lái)的薄膜的晶體取向性

詳細(xì)介紹

熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(Hot Wire Assisted Chemical Vapor Deposition, HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進(jìn)行薄膜化學(xué)氣相沉積，適合做高溫的結(jié)晶材料，加熱絲輔助的同時(shí)還可以利用等離子體增強(qiáng)線圈進(jìn)一步輔助，從而提高制備出來(lái)的薄膜的晶體取向性。


技術(shù)參數(shù)：

1 基片尺寸可定制；
2 加熱溫度 2000℃；
3 樣品臺(tái)加熱溫度500℃；
4 ICP等離子體增強(qiáng)可選；

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