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行業(yè)產(chǎn)品

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深圳海創(chuàng)德科技有限公司


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反應(yīng)離子刻蝕（RIE/ICP-RIE）

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地深圳市

聯(lián)系方式：瞿經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2023-01-14 07:58:30瀏覽次數(shù)：588次

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商鋪產(chǎn)品：73條

所在地區(qū)：廣東深圳市

聯(lián)系人：瞿經(jīng)理

產(chǎn)品簡介

反應(yīng)離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過產(chǎn)生的等離子體對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)和物理刻蝕

詳細(xì)介紹

反應(yīng)離子刻蝕(Reactive Ion Etching, RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過產(chǎn)生的等離子體對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)和物理刻蝕。矽碁科技提供各類定制化RIE設(shè)備，廣泛應(yīng)用于氧化硅、氮化硅及各類電介質(zhì)材料刻蝕，此外矽碁還可以提供電感耦合反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(ICP-RIE)，該機(jī)型可提供更高的等離子濃度，適合金屬等其他材料的刻蝕。


技術(shù)參數(shù)：

1 基片尺寸可定制；

2 多層式工藝氣體導(dǎo)入，氣體分布均勻；

3 獨(dú)立MFC控制箱，可靈活擴(kuò)充工藝氣路；

4 基板水冷系統(tǒng)，保持刻蝕時(shí)基板溫度恒定；

5 刻蝕均勻性優(yōu)于 ±5%；


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