詳細(xì)摘要： 硫化鎘合成爐 CdS合成爐專為硫化鎘氣相化合工藝研發(fā)，多段梯度溫場+高真空密閉腔體，精準(zhǔn)控制硫、鎘單質(zhì)氣化反應(yīng)，穩(wěn)定產(chǎn)出6N高純CdS多晶料。
產(chǎn)品型號：cl所在地：青島市更新時(shí)間：2026-06-17 在線留言
青島晨立電子有限公司
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詳細(xì)摘要： 硫化鎘合成爐 CdS合成爐專為硫化鎘氣相化合工藝研發(fā)，多段梯度溫場+高真空密閉腔體，精準(zhǔn)控制硫、鎘單質(zhì)氣化反應(yīng)，穩(wěn)定產(chǎn)出6N高純CdS多晶料。
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詳細(xì)摘要： 碲化鎘合成爐 CdTe真空合成爐 專為化合物半導(dǎo)體材料研發(fā)量產(chǎn)打造，采用分段梯度控溫高真空反應(yīng)體系，實(shí)現(xiàn)高純鎘、碎單質(zhì)氣相化合，穩(wěn)定產(chǎn)出6N級碎化鎘多晶錠。
產(chǎn)品型號：CL所在地：青島市更新時(shí)間：2026-06-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 青島晨立電子有限公司生產(chǎn)的非晶帶材連續(xù)式退火爐由：進(jìn)端工作臺、出端工作臺、加磁器、設(shè)備主體、進(jìn)出料通道、主工作通道、冷卻通道、加熱器和外飾護(hù)板的組成。
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2026-06-05 在線留言
詳細(xì)摘要： 氧化爐應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導(dǎo)體器件、光導(dǎo)纖維及太陽能電池等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2026-06-05 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體退火爐 硅片退火爐 供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應(yīng)工...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-07-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 石英管退火爐的控制系統(tǒng)高，具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于高等院校，科研院所，企業(yè)實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)等。
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-07-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 微型共晶爐高真空，低空洞, 體積小，易操作，維護(hù)簡單，節(jié)能降耗，能滿足高質(zhì)量焊接工藝需求，通過真空焊接技術(shù)實(shí)現(xiàn)無空洞焊接，該款設(shè)備適用于批量生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)室研發(fā)的要...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-07-17 在線留言
詳細(xì)摘要： TEL立式加熱器★半導(dǎo)體擴(kuò)散爐燒結(jié)爐等★滿足3“-12“晶圓擴(kuò)散爐“★完整的產(chǎn)品系列★進(jìn)口替代★*的材料及制造技術(shù)，指標(biāo)優(yōu)異★使用溫度：1300℃±0.5℃★高...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-07-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 臥式6寸兩管退火爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應(yīng)工藝。
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-07-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 三工位真空燒結(jié)爐主要由左、中、右并列三工位工作室、設(shè)備機(jī)架、可移動(dòng)電熱爐體、電氣控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)系統(tǒng)組成。
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-07-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 隧道式燒結(jié)爐特點(diǎn)★ 本設(shè)備為氣氛保護(hù)爐，保護(hù)氣氛為氫氣、氮?dú)狻鍤獾??！?設(shè)備具有連續(xù)工作性，保證生產(chǎn)效率?！?氣幕簾與機(jī)械幕簾結(jié)合，確保爐膛與空氣隔絕。★ 多...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-07-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 科研爐是半導(dǎo)體加工中的典型熱處理設(shè)備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)中進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。 科研設(shè)備 科研...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-06-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 臥式6寸兩管擴(kuò)散爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應(yīng)工藝。
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-06-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 高真空退火爐半導(dǎo)體退火爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應(yīng)工藝...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-06-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 碳化硅氧化爐 真空退火爐 高溫?cái)U(kuò)散爐 ★可處理硅片尺寸：2—8英寸★外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)★工作溫度：200℃—1300℃★恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-06-27 在線留言
詳細(xì)摘要： SIC高溫氧化爐-氧化擴(kuò)散爐-科研氧化爐擴(kuò)散爐系列設(shè)備用途：用于大規(guī)模集成電路、太陽能電池片、電力電子、光 電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-06-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 晶圓真空退火爐主要用于半導(dǎo)體晶圓的低溫退火。尺寸：4-8英寸晶圓晶圓舟：標(biāo)準(zhǔn)控溫精度：±3℃升溫速率：10℃/min潔凈等級：千級潔凈
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2025-06-26 在線留言
詳細(xì)摘要： IGBT真空共晶爐是使用真空來達(dá)到無空洞焊點(diǎn)，能滿足研發(fā)部門的需求，并適用于大批量生產(chǎn)。主要針對大規(guī)模cell管芯、SMT器件、電力電子器件、IGBT、SRR器...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2023-10-18 在線留言
詳細(xì)摘要： 高溫?cái)U(kuò)散爐應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導(dǎo)體器件、光導(dǎo)纖維及太陽能電池等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2023-07-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 高溫氧化爐應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導(dǎo)體器件、光導(dǎo)纖維及太陽能電池等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時(shí)間：2023-07-22 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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