詳細(xì)摘要: 氧化爐應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導(dǎo)體器件、光導(dǎo)纖維及太陽(yáng)能電池等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝,可用于3-12英寸工藝尺寸。
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青島晨立電子有限公司
詳細(xì)摘要: 氧化爐應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導(dǎo)體器件、光導(dǎo)纖維及太陽(yáng)能電池等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝,可用于3-12英寸工藝尺寸。
產(chǎn)品型號(hào):所在地:青島市更新時(shí)間:2026-06-05 在線留言詳細(xì)摘要: 半導(dǎo)體退火爐 硅片退火爐 供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝,完成4寸wafer 的相應(yīng)工...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:青島市更新時(shí)間:2025-07-25 在線留言詳細(xì)摘要: 臥式6寸兩管擴(kuò)散爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝,完成4寸wafer 的相應(yīng)工藝。
產(chǎn)品型號(hào):所在地:青島市更新時(shí)間:2025-06-27 在線留言詳細(xì)摘要: 高真空退火爐半導(dǎo)體退火爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝,完成4寸wafer 的相應(yīng)工藝...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:青島市更新時(shí)間:2025-06-27 在線留言詳細(xì)摘要: 碳化硅氧化爐 真空退火爐 高溫?cái)U(kuò)散爐 ★可處理硅片尺寸:2—8英寸★外型形式:臥式1—4管結(jié)構(gòu)★工作溫度:200℃—1300℃★恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度:200mm—1...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:青島市更新時(shí)間:2025-06-27 在線留言詳細(xì)摘要: SIC高溫氧化爐-氧化擴(kuò)散爐-科研氧化爐擴(kuò)散爐系列設(shè)備用途:用于大規(guī)模集成電路、太陽(yáng)能電池片、電力電子、光 電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:青島市更新時(shí)間:2025-06-27 在線留言詳細(xì)摘要: 高溫氧化爐應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導(dǎo)體器件、光導(dǎo)纖維及太陽(yáng)能電池等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝,可用于3-12英寸工藝尺寸。
產(chǎn)品型號(hào):所在地:青島市更新時(shí)間:2023-07-22 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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