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光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統 PR-PD2是通過激光散射方式對曝光工藝中光掩模上的細小顆粒進行檢測的裝置?？蓹z測光掩模圖案面（Pattern ...

外形小巧、運營成本低、應用范圍廣光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統PR-PD3系列產品運轉效率高，具有*穩(wěn)定性，受到眾多半導體制造工廠的高度評價。繼...

化學藥液濃度計 CS-700系列的化學藥液濃度計擁有更好的性能去監(jiān)測混酸中的各個成分，包括高精*半導體制程中所需的各種化學藥液。通過改進HORIBA的光譜分析測...

HF/HCl濃度計監(jiān)測儀 HF-960H適用于測量高濃度的*和鹽酸等HF-960H精確測量用于半導體制造或其它制程中所使用的*和鹽酸。使用4-電極電導率測量轉換...

碳質探頭傳感器（高濃度型）監(jiān)測儀 HE-960HC適用于半導體和FPD生產制程中化學藥液和廢液的管理HE-960HC測量電導率可作為基于化學藥液和廢水管理的參數...

TMAH濃度計監(jiān)測儀HE-960H-TM適用于顯影液中TMAH的濃度管理HE-960TM可精確測量半導體和液晶生產中光阻顯影藥液制程中主要成份TMAH （四甲基...

SC-2濃度計監(jiān)測儀 CS-152高精度化學藥液濃度計專為半導體制造時清洗制程中所使用的SC-1溶液而設計。實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化，可用于監(jiān)測清除...

BHF濃度計監(jiān)測儀 CS-137高精度化學藥液濃度計專為半導體制造時清洗制程中所使用的BHF溶液而設計。實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化，可用于監(jiān)測硅氧化膜...

SPM監(jiān)測儀 CS-150是半導體制造中清洗工藝的SPM溶液用于高精度藥液濃度的監(jiān)測儀，實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化?？梢詫崟r檢測金屬離子以及有機物的清...

SC-1濃度計監(jiān)測儀 CS-131是半導體制造中清洗工藝的SC-1溶液用于高精度藥液濃度的監(jiān)測儀，實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化?？梢猿r間的監(jiān)測微粒以及...

光纖式藥液濃度計 CS-100F1系列通過利用光纖傳播光信號，把樣品單元直接組裝到清洗裝置配管上，實現實時在線測量。 同時，1臺單一的濃度計zui多可以測量4種...

*濃度計監(jiān)測儀CM-200A/210A為監(jiān)測半導體制造工藝中*濃度而開發(fā)出來的高精度*濃度計。該設備通過采用電磁感應導電率計測量并實時顯示*濃度。廣泛適用于各個...

化學藥液濃度計 CS-600F實現了更高標準的功能，旨在更好的適應生產制造，實現半導體濕法工藝對化學藥液濃度更精準的管理。比如在多種不同應用中的在線監(jiān)測高溫化學...

電源PE-D20流量控制器常用功能已全部囊括進這臺緊湊尺寸的設備中,流量輸出警報，外部輸出，開路集電極并可通過前端面板操作。

UVISEL自動超薄膜檢測光譜型相調制橢圓偏振儀（SPME）是一款*的儀器，它采用光彈性晶體來調制偏振光，而不是傳統橢偏技術中的機械偏光裝置。

Auto SE薄膜檢測儀是一種新型的按鍵式全自動薄膜測量分析工具，僅需簡單的幾個按鍵操作，即可完成全自動測量和分析。僅幾秒鐘即可完成樣品分析，并提供完整的樣品堆...

半導體工廠對高效和功能性有很高的要求,而Horiba PD系列正因良好的操作性及*的穩(wěn)定性享有盛譽。光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統 PR-PD2...

在半導體/FPD工藝中，超純水中的二氧化硅濃度會給產品精度以及原材料利用率帶來很大影響。高靈敏度硅表超純水管理用 高靈敏度硅表 SLIA-300完*夠達到1μg...

碳質探頭電阻率計 HE-960R-GC使用的是玻璃碳質傳感器。玻璃碳質傳感器不會被金屬洗脫所污染，而且對于例如*和*等濕法清洗藥液具有很好的耐藥性。其對單槽清洗...

雙通道電阻率計 HE-960RW-GC可連接兩個傳感器并可同時進行測量。一臺變換器可同時進行高性能高精度地測量和輸出2個不同位置的電阻率。