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復(fù)雜三維形貌測(cè)量,是半導(dǎo)體、MEMS、精密機(jī)械制造領(lǐng)域長(zhǎng)期面臨的檢測(cè)難點(diǎn)。晶圓刻蝕溝槽、TSV深孔、芯片陣列及機(jī)械磨損缺陷等結(jié)構(gòu),因開口窄、縱深大,普通光學(xué)設(shè)備僅能獲取表層信息,底層與側(cè)壁信號(hào)嚴(yán)重缺失,導(dǎo)致深度、體積、深寬比數(shù)據(jù)失真。針對(duì)上述痛點(diǎn),托托科技·光學(xué)輪廓儀搭載高性能三維形貌測(cè)量模塊,并在此基礎(chǔ)上優(yōu)化了掃描效率與調(diào)平算法,專為復(fù)雜立體結(jié)構(gòu)完整三維測(cè)量而設(shè)計(jì),為復(fù)雜形貌檢測(cè)建立全新標(biāo)準(zhǔn)。
托托科技·光學(xué)輪廓儀高精度三維形貌測(cè)量功能介紹
復(fù)雜三維形貌測(cè)量,是半導(dǎo)體、MEMS、精密機(jī)械制造領(lǐng)域長(zhǎng)期面臨的檢測(cè)難點(diǎn)。晶圓刻蝕溝槽、TSV深孔、芯片陣列及機(jī)械磨損缺陷等結(jié)構(gòu),因開口窄、縱深大,普通光學(xué)設(shè)備僅能獲取表層信息,底層與側(cè)壁信號(hào)嚴(yán)重缺失,導(dǎo)致深度、體積、深寬比數(shù)據(jù)失真。針對(duì)上述痛點(diǎn),托托科技·光學(xué)輪廓儀搭載高性能三維形貌測(cè)量模塊,并在此基礎(chǔ)上優(yōu)化了掃描效率與調(diào)平算法,專為復(fù)雜立體結(jié)構(gòu)完整三維測(cè)量而設(shè)計(jì),為復(fù)雜形貌檢測(cè)建立全新標(biāo)準(zhǔn)。
為什么高精度三維形貌測(cè)量是復(fù)雜結(jié)構(gòu)的“攻堅(jiān)利器"
在復(fù)雜結(jié)構(gòu)的測(cè)量場(chǎng)景中,測(cè)量對(duì)象在縱深方向上的尺寸遠(yuǎn)超其開口寬度,導(dǎo)致測(cè)量手段受到物理限制。
普通光學(xué)儀器受焦深限制,無(wú)法同時(shí)清晰成像孔底與孔口,信號(hào)主要來(lái)源于表層反射,縱深方向的形貌信息近乎缺失;溝槽底部粗糙度、側(cè)壁傾斜角、實(shí)際刻蝕深度等關(guān)鍵參數(shù),均難以從表層圖像中推導(dǎo)還原。
接觸式臺(tái)階儀則受制于探針錐角和懸臂極易與側(cè)壁碰撞,從而產(chǎn)生劃痕或壓痕,造成不可逆損傷,同時(shí)導(dǎo)致探針無(wú)法抵達(dá)結(jié)構(gòu)底部,無(wú)法完成形貌測(cè)量。
掃描電鏡雖能提供高分辨率成像,但通常需對(duì)樣品進(jìn)行剖切制樣,屬于破壞性檢測(cè),且僅能輸出定性二維襯度信息,無(wú)法直接獲取深度、體積、粗糙度等高精度定量三維參數(shù)。
而神影MV-7000所采用的高精度三維光學(xué)測(cè)量技術(shù),能有效抑制雜散光干擾,逐層獲取縱深方向的有效信號(hào),配合長(zhǎng)工作距高分辨率物鏡,適配微米級(jí)開口至數(shù)百微米深度的復(fù)雜工況,軸向分辨率達(dá)納米級(jí),測(cè)量精度穩(wěn)定可靠。
三大核心應(yīng)用場(chǎng)景
半導(dǎo)體BGA錫球&芯片微結(jié)構(gòu)三維形貌檢測(cè)
場(chǎng)景:BGA封裝錫球共面性、植球高度與體積測(cè)量,芯片表面微凸點(diǎn)、RDL布線溝槽、鈍化層開口等精細(xì)結(jié)構(gòu)形貌表征。
檢測(cè)難點(diǎn):錫球陣列間距小、球頂曲率陡峭,常規(guī)光學(xué)設(shè)備難以同時(shí)獲取球頂與球底的高度信息,導(dǎo)致共面性判定偏差;芯片微結(jié)構(gòu)線寬窄、臺(tái)階落差大,側(cè)壁信號(hào)易受雜光干擾,傳統(tǒng)測(cè)量方式速度慢,難以滿足量產(chǎn)抽檢節(jié)拍。
實(shí)測(cè)效果展示:
機(jī)械制造金屬表面缺陷&斷口形貌檢測(cè)
場(chǎng)景:精密零部件磨痕、腐蝕坑、微裂紋等表面缺陷定量分析,以及金屬斷口韌窩、解理臺(tái)階、疲勞輝紋等斷裂形貌三維重建。
檢測(cè)難點(diǎn):缺陷區(qū)域深淺不一、邊界模糊,斷口表面起伏劇烈且局部存在近乎垂直的立面,普通光學(xué)顯微鏡難以對(duì)焦全貌;接觸式探針易劃傷缺陷邊緣,且無(wú)法對(duì)深度、面積、粗糙度等關(guān)鍵參數(shù)精確量化。
實(shí)測(cè)效果展示:

生命科學(xué)微流控芯片三維形貌檢測(cè)
場(chǎng)景:微流控芯片通道深度、寬度、交叉口輪廓測(cè)量,及通道內(nèi)微柱、閥座、反應(yīng)腔室等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)的尺寸與表面質(zhì)量校驗(yàn)。
檢測(cè)難點(diǎn):通道開口尺寸微?。ǔ槲⒚准?jí)),深寬比大,側(cè)壁近乎垂直,底部與側(cè)壁形貌差異顯著,需同時(shí)獲取多層深度信息;且芯片內(nèi)結(jié)構(gòu)密集、特征多樣,對(duì)測(cè)量系統(tǒng)的軸向分辨率和非接觸無(wú)損檢測(cè)能力提出高要求,同時(shí)實(shí)驗(yàn)室批次樣品多,對(duì)檢測(cè)速度與操作便捷性也有較高期待。
實(shí)測(cè)效果展示:
托托科技神影系列MV-7000三維光學(xué)輪廓儀
一臺(tái)設(shè)備,三種模式,白光干涉、共聚焦、景深融合軟件一鍵切換,無(wú)需更換硬件。無(wú)論您面對(duì)的是納米級(jí)光滑表面,還是微米級(jí)深溝槽與毫米級(jí)復(fù)雜結(jié)構(gòu),總能選擇合適的測(cè)量方式。神影 MV-7000光學(xué)輪廓儀,讓三維形貌檢測(cè)從此更簡(jiǎn)單、更精準(zhǔn)、更全面。
復(fù)雜三維形貌測(cè)量,曾長(zhǎng)期是微納制造與精密檢測(cè)領(lǐng)域的“硬骨頭"。托托科技神影MV-7000的高精度三維光學(xué)測(cè)量技術(shù)以其出色的縱深分辨能力,為陡峭側(cè)壁、深腔結(jié)構(gòu)提供了非接觸、高精度的測(cè)量路徑,讓原本“看不清、測(cè)不準(zhǔn)"的難題有了可靠解法。隨著半導(dǎo)體、MEMS、生命科學(xué)等領(lǐng)域的結(jié)構(gòu)日趨復(fù)雜,高精度三維形貌表征將成為良率提升與工藝優(yōu)化的核心驅(qū)動(dòng)力。
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主營(yíng)產(chǎn)品:無(wú)掩模光刻機(jī),超高精度3D光刻機(jī),多模態(tài)光電顯微鏡,磁光克爾顯微系統(tǒng),3D顯微鏡
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