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當(dāng)前位置：安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司>>產(chǎn)品展示>>鍍膜設(shè)備
用途：本設(shè)備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜
用途：本設(shè)備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜
反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)
概述磁控濺射是利用磁場(chǎng)束縛電子的運(yùn)動(dòng)（即磁控管模式），其結(jié)果導(dǎo)至轟擊基片的高能電子的減少和轟擊靶材的高能離子的增多，使其具備了低溫、高速兩大特點(diǎn)
一設(shè)備技術(shù)要求：可以用于蒸鍍半導(dǎo)體、金屬膜，納米級(jí)單層及多層功能膜
概述磁控濺射是利用磁場(chǎng)束縛電子的運(yùn)動(dòng)（即磁控管模式），其結(jié)果導(dǎo)至轟擊基片的高能電子的減少和轟擊靶材的高能離子的增多，使其具備了低溫、高速兩大特點(diǎn)
概述：等離子體清洗機(jī)由真空腔體及等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等部分組成
實(shí)驗(yàn)級(jí)蒸鍍機(jī)EV200
實(shí)驗(yàn)級(jí)蒸鍍機(jī)EV400A
材料整體驗(yàn)證機(jī)LD-1
概述磁控濺射是利用磁場(chǎng)束縛電子的運(yùn)動(dòng)（即磁控管模式），其結(jié)果導(dǎo)至轟擊基片的高能電子的減少和轟擊靶材的高能離子的增多，使其具備了低溫、高速兩大特點(diǎn)
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