當(dāng)前位置：安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司>>產(chǎn)品展示
一、設(shè)備特點： 真空中頻感應(yīng)熔煉爐為立式爐殼型的真空感應(yīng)電爐
定制滑軌爐（BTF-1200C-SL-DII）
1、主要特點 該設(shè)備爐管可360°旋轉(zhuǎn)，有助于粉料的燒結(jié)更均勻，可大角度傾斜，方便進(jìn)出料，傾斜角度在0-35°之間
小型快速升溫爐 BTF-1200C-RTP-S90B
產(chǎn)品特點 開啟式迷你真空管式爐爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空，也可以通氣體保護(hù)
主要特點： 一、此設(shè)備的高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經(jīng)典的閉環(huán)負(fù)反饋控制系統(tǒng)，控溫儀表選用智能型程序溫度調(diào)節(jié)儀表控溫，電力調(diào)制器控制;負(fù)載采用小電壓大電流控...
用途：本設(shè)備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜
用途：本設(shè)備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜
反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)
概述磁控濺射是利用磁場束縛電子的運動（即磁控管模式），其結(jié)果導(dǎo)至轟擊基片的高能電子的減少和轟擊靶材的高能離子的增多，使其具備了低溫、高速兩大特點
一設(shè)備技術(shù)要求：可以用于蒸鍍半導(dǎo)體、金屬膜，納米級單層及多層功能膜
概述磁控濺射是利用磁場束縛電子的運動（即磁控管模式），其結(jié)果導(dǎo)至轟擊基片的高能電子的減少和轟擊靶材的高能離子的增多，使其具備了低溫、高速兩大特點
概述：等離子體清洗機(jī)由真空腔體及等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等部分組成
實驗級蒸鍍機(jī)EV200
實驗級蒸鍍機(jī)EV400A
材料整體驗證機(jī)LD-1
概述磁控濺射是利用磁場束縛電子的運動（即磁控管模式），其結(jié)果導(dǎo)至轟擊基片的高能電子的減少和轟擊靶材的高能離子的增多，使其具備了低溫、高速兩大特點
1、鋁型材機(jī)架+防指紋拉絲不銹鋼面板，觸摸屏人機(jī)操作
溫度：1100℃使用溫度：1000℃腔體尺寸：300*300*500mm
本設(shè)備是一款管式搖擺爐，溫度可達(dá)1200℃，30段可編程精密溫度控制器,可根據(jù)不同的客戶需求來設(shè)定升降溫程序，控溫精度1℃，設(shè)備可設(shè)定取放料工位（如垂直取放料）...
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