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TEM用氮化硅薄膜窗口/樣品支撐膜

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更新時間：2017-07-04 22:09:19瀏覽次數(shù)：635次

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上海昭沅儀器設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

上海昭沅儀器專業(yè)提供各種透射電鏡用氮化硅薄膜窗口，適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對同一區(qū)域的交叉配對表征。

詳細介紹

TEM用氮化硅薄膜窗口

氮化硅薄膜窗特點

• 低應(yīng)力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜：50nm厚的薄膜具有zui大的視野范圍；8nm和15nm厚的無孔氮化硅薄膜適用于TEM超高分辨率的應(yīng)用

• 氮化硅支撐膜：低應(yīng)力的LPCVD非化學(xué)計量比氮化硅薄膜，良好的平整度、絕緣性和疏水性

• 良好的化學(xué)穩(wěn)定性：圖像分辨率和機械強度達到理想的平衡；

• 均勻性：減少了不同區(qū)域的不均勻性；

• TEM斷面成像應(yīng)用的特殊窗口：適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口，傾斜度zui大可達75°

• 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm

• 可應(yīng)用于多種顯微技術(shù)：良好的機械穩(wěn)定性使得同一種薄膜可應(yīng)用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。

• 薄膜和基底耐酸，不會被溶解：可以在酸性條件或常規(guī)條件下研究、制備樣本

• 可應(yīng)用于高溫試驗環(huán)境： >1000° C

• 可提供更對精確的分析，如樣品中的碳含量，減少污染：可用于無碳環(huán)境中的TEM成像和分析

• 容易清洗：機械穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗，無有機物殘留，改善成像質(zhì)量；

• 良好的平整度：良好的納米沉積基底和薄膜，無背景結(jié)構(gòu)適合于SEM成像

• 超凈加工，防止支撐膜上殘留微粒：100級的超凈間內(nèi)包裝

• 框架厚度：200 and 50µm ：200µm是標準的TEM支撐架；50µm是特殊的TEM支撐架

• 標準框架直徑為3mm

• 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性

氮化硅薄膜窗規(guī)格

單窗口系列

窗口類型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
	20nm	500x500µm	Φ3mm	100µm
	20/50nm	500x500µm	Φ3mm	200µm
	50nm	1000x1000µm	Φ3mm	200µm
	50nm	100x100µm	Φ3mm	200µm
	15nm	0.25x0.25mm	Φ3mm	200µm
	50nm	0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm	Φ3mm	200µm
	200nm	0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm	Φ3mm	200µm
	15/50/200nm	0.25x0.25mm	Φ3mm	50µm
	50nm /200nm	0.5x1.5mm	Φ3mm	50µm

多窗口系列

窗口類型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
	50nm	2x1陣列，100X1500µm	Φ3mm	200µm
	15nm /50nm /200nm	2x1陣列，100X1500µm	Φ3mm	200µm
	50nm	2x1陣列，100X1500µm	Φ3mm	50µm
	10nm /20nm	3x3陣列，8個窗口100X100µm， 1個窗口100X350µm	Φ3mm	100µm
	10nm	3x3陣列，8個窗口250X250µm， 1個窗口250X500µm	Φ3mm	100µm
	20nm	3x3陣列，8個窗口100X100µm， 1個窗口100X350µm	Φ3mm	200µm
	50nm	3x3陣列，8個窗口100X100µm， 1個窗口100X350µm	Φ3mm	100µm
	15nm /50nm /200nm	3x3陣列，窗口100X100µm，	Φ3mm	200µm
	50nm	3x3陣列，窗口100X100µm，	Φ3mm	50µm
	8nm	單窗口，窗口大?。?.6×0.6mm；25個網(wǎng)格，氮化硅支撐膜200nm；網(wǎng)格上的氮化硅薄膜8nm；網(wǎng)格大?。?5µm ，網(wǎng)格間距：25µm；	Φ3mm	200µm