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考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜 參考價(jià)：300000
立方氮化硼（cBN）由于具有高超的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)(約從 200nm 開(kāi)始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 ...
KRi 射頻離子源應(yīng)用于IBE 離子束蝕刻系統(tǒng) 參考價(jià)：300000
上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性（1 ...
KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用 參考價(jià)：300000
上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼品牌 RF 射頻離子源, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜,...
KRI 射頻離子源 RFICP 系列 鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
上海伯東美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻源 RF...
上海伯東代理射頻離子源 RFICP 380 參考價(jià)：1920000
上海伯東美國(guó)考夫曼離子源 RFICP 380 特性:放電腔 Discharge Chamber, 無(wú)需電離燈絲, 通過(guò)射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時(shí)間更長(zhǎng).2...
上海伯東代理 KRI 射頻離子源 RFICP 220 參考價(jià)：1212000
上海伯東代理美國(guó)* KRI 射頻離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源,適用于離子濺鍍,離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 離子源 RFICP 2...
上海伯東代理 KRI 射頻離子源 RFICP 140 參考價(jià)：1320000
上海伯東代理美國(guó)* KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源，非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中...
上海伯東代理 KRI 射頻離子源 RFICP 100 參考價(jià)：1140000
上海伯東代理美國(guó)* KRI 考夫曼型離子源 RFICP 100 緊湊設(shè)計(jì), 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設(shè)計(jì)但是可以輸出 400 mA 離子流. 考夫曼型...
上海伯東代理 KRI 射頻離子源 RFICP 40 參考價(jià)：720000
上海伯東代理美國(guó)* KRI 考夫曼型離子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射頻離子源 RFICP 系列尺寸小, 低成本高效離子源. 適用于集成在小型的真空...
伯東 KRI 考夫曼離子源 Gridded RFICP 系列 參考價(jià)：700000
上海伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列,無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng),KRI 射頻離...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
