上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵極離子源.

離子束流: >800 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力: < 0.5m Torr

離子束可聚焦, 平行, 散射.

采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.

通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 預(yù)清洗

2. 表面改性

3. 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD,

4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

6. 離子蝕刻 IBE