上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 40. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.

離子束流: >100 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical flow): 2-10 sccm.

加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強設計輸出高質量, 穩(wěn)定的電子流.

離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

無需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設計.

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術參數(shù)：

伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 應用領域：

1. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

2. 輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 離子濺射沉積和多層結構 IBSD

5. 離子蝕刻 IBE