超高真空多腔體電子束蒸發(fā)鍍膜儀：可以用于沉積Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金屬及氧化物薄膜，目前主要超導(dǎo)量子實(shí)驗(yàn)室均使用該設(shè)備制備超導(dǎo)Al結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。更詳細(xì)信息或資料，請咨詢我們！

詳細(xì)介紹

預(yù)處理腔：襯底旋轉(zhuǎn)、傾斜（3D）；真空度10-8 Torr

蒸發(fā)鍍膜腔：電子槍6-15KW；

可加載4英寸襯底；襯底旋轉(zhuǎn)、傾斜，精度和重復(fù)性優(yōu)于0.01°（可升級）

真空度10-10 Torr或10-11 Torr

頻率分辨率10-4 Hz或更高；速率分辨率10-3 nm/s；厚度分辨率10-2 nm

氧化腔體：靜態(tài)/動(dòng)態(tài)氧化（氧氣、氮?dú)獾龋?/strong>

真空度<10-8 Torr

全自動(dòng)軟件包，支持半自動(dòng)和手動(dòng)模式，支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)操作和維護(hù)。

典型用戶：耶魯大學(xué)、日本NTT、中科院物理所等
歡迎進(jìn)一步咨詢！

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商鋪：上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司 http://m.liuyangwu.com/st52014/

主營產(chǎn)品：磁控濺射儀，電子束蒸發(fā)鍍膜儀，離子減薄儀，微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（MPCVD），化學(xué)束外延系統(tǒng)，電磁場場分布測試儀，等離子處理，刻蝕機(jī)，光學(xué)軟件與材料（金剛石），HFCVD，BSDF/BRED測量儀，電磁場仿真軟件

移動(dòng)端：上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司手機(jī)站

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