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大尺寸脈沖激光沉積系統(tǒng) Large-Area PLD Systems

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更新時間：2026-06-29 10:24:39瀏覽次數(shù)：98次

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產品簡介

?全自動大尺寸PLD系統(tǒng)?晶圓尺寸:4"(100毫米)，6"(150毫米)和8"(200毫米)直徑?外延薄膜、多層異質結構和超晶格的沉積?高溫下氧化膜沉積的氧相容性?自動激光掃描厚度均勻技術參數(shù)1.襯底尺寸:(直徑)4"(100mm)，6"(150mm)和8"(200mn)2.PLD腔室尺寸:18英寸直徑球體或圓柱體

詳細介紹

?全自動大尺寸PLD系統(tǒng)

?晶圓尺寸:4 "(100毫米)，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直徑

?外延薄膜、多層異質結構和超晶格的沉積

?高溫下氧化膜沉積的氧相容性

?自動激光掃描厚度均勻

技術參數(shù)

1.襯底尺寸:(直徑)4 " (100mm)，6 " (150mm)和8 " (200mn)

2.PLD腔室尺寸:18英寸直徑球體或圓柱體。

3.襯底加熱:850 ℃(4 "wafers))，750℃(6 "wafers)，700℃(8" wafers)

4.目標旋轉: 直徑4 × 2"

Neocera大尺寸PLD系統(tǒng)用于在各種襯底上沉積各種高質量的薄膜，晶圓（wafer）直徑可達8 "(200毫米)。基片旋轉結合激光掃描提供整個晶圓區(qū)域的厚度均勻性。激光束掃描附件采用了*的Neocera設計，當激光束掃描時，可以在目標上產生固定的激光通量(J/cm2)。當激光束通過目標表面掃描時，激光束掃描使用*的掃描程序。激光位置在目標上的停留時間遵循逆速度程序，促進了薄膜厚度的良好控制。用戶可以*控制掃描參數(shù)的必要改變，厚度輪廓取決于沉積壓力。

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