EVO 18 是一款具有處理各種材料能力的分析型顯微鏡，為您提供的成像品質(zhì)。
　　標配能譜儀和波譜儀(EDS & WDC)接口，另有用于高級形貌與化學(xué)分析的全集成式顆粒分析和識別解決方案可供選擇。通過升級LaB6高亮度光源將與X射線分析相關(guān)的探針電流性能提升至一個全新的水準。
　　EVO 18 掃描電鏡的五象限背散射電子探測器(BSE)有助于增強低電壓性能及提供更豐富的形態(tài)信息。對于非導(dǎo)電樣品，電子束襯管技術(shù)可有效提高分辨率。
　　EVO 18 Research 是學(xué)術(shù)和研究機構(gòu)使用的一款分析型掃描電子顯微鏡。EVO 18 Research 為您提供的成像品質(zhì)，具有處理多種材料的能力。結(jié)合SmartSEM 軟件的易用性，使其成為多種研究應(yīng)用的合適之選，范圍涵蓋半導(dǎo)體和電子技術(shù)、地質(zhì)科學(xué)及材料研究。

世界光學(xué)品牌，可見光及電子光學(xué)的----德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)，積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗，ZEISS電子束技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個： 　　臺靜電式透射電鏡 (1949) 　　臺商業(yè)化掃描電鏡 (1965) 　　臺數(shù)字化掃描電鏡(1985) 　　臺場發(fā)射掃描電鏡(1990) 　　臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992) 　　臺具有Koehler照明的 200kV 場發(fā)射透射電鏡(2003) 　　臺具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003) 　　CARL ZEISS以其前瞻性的設(shè)計融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)，公司擁有電鏡制造最核心的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標準的CARL ZEISS將一路電鏡市場為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀元。

【總體描述】 　　EVO18是一臺高性能、功能*的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。系統(tǒng)采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設(shè)計，提供高真空成像功能，可對各種材料表面作分析。并且具有業(yè)界的X射線分析條件，樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵滿足快速的樣品更換和無污染成像分析。

【技術(shù)參數(shù)】 　　分辨率：3.0 nm @ 30 KV (SE 與W) 　　4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD ) 　　加速電壓：0.2-30KV 　　放大倍數(shù)：5-1000000 x 　　探針電流：0.5PA-5μA 　　X-射線分析工作距離：8.5mm 35度接收角 　　低真空壓力范圍：10-400Pa(選配10-750Pa、LS10:環(huán)掃模式10-3000pa) 　　工作室：365mm (Φ) x 275 mm (h) 　　5軸優(yōu)中心自動樣品臺：X=125mm Y=125mm Z=50mm 　　T= -10°- 90° R=360°(l連續(xù)) 　　較大試樣高度：145mm 大試樣直徑：250mm 　　系統(tǒng)控制：基于Windows 7 的SmartSEM 操作系統(tǒng) 　　存儲分辨率為32,000 x 24,000 pixels

【產(chǎn)品應(yīng)用】 　　掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。