RIE-24000反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(帶Load_Lock裝置) 采用PLC控制，觸摸顯示屏操作。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動(dòng)化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺(tái)。
本設(shè)備通過(guò)對(duì)真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量及工藝過(guò)程的全自動(dòng)控制，以及所具有的安全互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點(diǎn)保護(hù)等功能。使設(shè)備的安全性、重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證。
產(chǎn)品主要性能指標(biāo)：

型號(hào)	RIE-24000
真空系統(tǒng)	進(jìn)樣室：機(jī)械泵系統(tǒng)；刻蝕室：分子泵機(jī)組
樣品尺寸	500×400mm
刻蝕材料	SiO2、Si3N4等
刻蝕不均勻性	≤ ±5%
自動(dòng)化程度	真空系統(tǒng)、機(jī)械手送/取樣片、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過(guò)程全自動(dòng)控制。
人機(jī)界面	Windows環(huán)境、觸摸屏操作
操作方式	全自動(dòng)方式、非全自動(dòng)方式
配套件選配	可選擇進(jìn)口件或國(guó)產(chǎn)件
送/取樣片方式	機(jī)械手自動(dòng)送/取片