設(shè)備結(jié)構(gòu)

系統(tǒng)主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機械手、真空吸鑄裝置（選配）、磁力攪拌、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及

安裝條件

總功率：380V 50Hz 功率大于72KW，波動范圍：小于±6％，配置多路接線插座；

可靠地線，對地電阻小于2Ω；

冷卻水：壓力2-3Bar ，流量1T/Hr，進水溫度小于40攝氏度。

占地空間：約1700 mm（寬）×1250 mm（深）×2200 mm（高）

要求安裝場地的標(biāo)準(zhǔn)溫度為20℃～24℃，標(biāo)準(zhǔn)相對濕度為50%～60%；

壓縮空氣（用戶自備）：用量小于40L/Min，壓力0.4MPa。；

外排廢氣管道

控制柜到設(shè)備動力線纜用戶自備。

非自耗電弧熔煉系統(tǒng)

真空室為圓型臥式前開門結(jié)構(gòu)，真空室采用304不銹鋼材質(zhì)，雙層爐壁水冷結(jié)構(gòu)并電解處理。

電弧熔煉電源，電流最大1000A。

引弧及熔煉電極采用鎢電極，引弧方式為氣氛保護下非接觸式高頻引弧。

電弧槍采用波紋管密封結(jié)構(gòu)，通過電機驅(qū)動直線導(dǎo)軌升降。

熔煉方式為手動引弧，通過操作把手調(diào)節(jié)電弧槍擺角實現(xiàn)手動旋轉(zhuǎn)熔化。

機械手采用波紋管密封，用于轉(zhuǎn)移合金錠。

電動旋轉(zhuǎn)水冷銅坩堝：工位呈半球平底碗碟狀，最大熔煉合金量：300克（以Fe計算）。

設(shè)有電磁攪拌功能。

真空及測量系統(tǒng)

真空獲得采用機械泵或分子泵組（分子泵為選配）。

真空測量采用數(shù)顯真空計（單機械泵采用電阻規(guī)，分子泵組采用復(fù)合真空計）

設(shè)有兩路進氣閥門，可充入保護性氣氛及大氣，可充氣體壓力最大：0.05MPa。

真空室主抽口前端設(shè)有金屬過濾網(wǎng)。

極限真空度：6.7×10-4 Pa（冷態(tài)），壓升率小于1 Pa/H。

電控系統(tǒng)

運動控制系統(tǒng)：電弧槍升降運動及水冷銅坩堝旋轉(zhuǎn)。

通過按鈕控制真空泵及閥門的啟停?？蓪崿F(xiàn)西門子PLC程序控制抽真空、充入工作氣體、腔室放氣等過程，電控系統(tǒng)具備近程、遠(yuǎn)程雙控功能，可根據(jù)需要切換。

安全保護連鎖系統(tǒng)：水流繼電保護：報警（蜂鳴）并切斷相關(guān)電源。

總控電源系統(tǒng)。

水冷循環(huán)及檢測系統(tǒng)

循環(huán)水源：配循環(huán)水機。

水路系統(tǒng)：分水器+閥門+匯流器。

測量單元：水流繼電器+水壓表+水溫傳感器。