ASML正式發(fā)布了2021年財報數(shù)據(jù)，除了靚麗的營收和凈利潤數(shù)據(jù)外，ASML還官宣了新款EUV光刻機。

據(jù)悉，ASML一次性推出了兩款新型EUV光刻機，其NA值均是0.55，相比現(xiàn)有型號的EUV光刻機，其NA明顯提升，畢竟，老款EUV光刻機的NA值為0.33。

另外，新款EUV光刻機采用擁有更高的NA值，就意味著其擁有更高的曝光精度，能夠進行更小晶圓的生產(chǎn)制造，關(guān)鍵是效率也大幅度提升，每小時曝光晶圓200片以上。

而現(xiàn)有型號的EUV光刻機，其每小時的晶圓曝光量為160片左右。

最主要的是，其中一款新型號的EUV光刻機已經(jīng)交付給了英特爾，而另外一款也有5套訂單了。

也就是說，ASML已經(jīng)具備了出貨更*EUV光刻機的能力。

對此，就有外媒表示，2年內(nèi)老款EUV光刻機可自由出貨。外媒如此肯定，也給出了以下幾點原因。

首先，EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。

EUV光刻機出貨后，ASML方面就表示，DUV光刻機在一般情況下是可以自由出貨的，除了在美生產(chǎn)制造的DUV光刻機。

2021年ASML就實現(xiàn)了DUV光刻機等設(shè)備自由出貨，并直接與ASML簽訂了價值11億美元的采購協(xié)議。

也就是說，新一代光刻機出現(xiàn)后，老款光刻機很快就實現(xiàn)了自由出貨，DUV光刻機就是例子。如今，新款EUV光刻機已經(jīng)交付，老款也會在2年內(nèi)自由出貨。

其次，ASML正在加速EUV光刻機普及。

EUV光刻機是生產(chǎn)制造7nm以下芯片的必要設(shè)備，再加上，越來越多的儲存芯片廠商也開始用EUV工藝。

于是，ASML明確表示要在2025年實現(xiàn)EUV光刻機使用達到60%。

要知道，目前EUV光刻機的出貨量不高，2021年僅為42臺，占ASML全年光刻機出貨量的1/7。

另外，還有三家企業(yè)可以生產(chǎn)制造光刻機，這意味著ASML要在2025年實現(xiàn)了EUV光刻機的安裝使用率高達60%，其必然要實現(xiàn)自由出貨。

數(shù)據(jù)顯示，EUV光刻機的安裝量應(yīng)該在140臺，這樣的基數(shù)實在太少了，要想實現(xiàn)60%的使用率，自由出貨和提升產(chǎn)能是的。

再加上，中國市場是巨大的，三星、SK海力士都在此有大量的工廠，這些工廠也是需要EUV光刻機。

但由于規(guī)則被修改，EUV光刻機不能出貨安裝到外企中國分廠，這意味著ASML只有實現(xiàn)EUV光刻機自由出貨，才能夠解決問題。

最后，壓力讓ASML不得不快速實現(xiàn)EUV光刻機自由出貨。

EUV光刻機原先是生產(chǎn)制造7nm以下芯片的必要設(shè)備，但如今可不再是設(shè)備了。

因為佳能、鎧俠科技等聯(lián)合研發(fā)了全新的NIL工藝，目前已經(jīng)用該工藝量產(chǎn)了15nm的芯片，預(yù)計在2025年用NIL工藝量產(chǎn)5nm芯片。

另外，NIL不僅能夠降低耗電量，也能夠降低設(shè)備采購成本，關(guān)鍵是，佳能、鎧俠等有意在范圍內(nèi)推廣該工藝。

還有就是，臺積電也明確表示，DUV光刻機可以量產(chǎn)7nm芯片，也可以量產(chǎn)5nm芯片，只不過工藝更復(fù)雜一些，成本也高一點。

這兩個消息讓ASML壓力很大，尤其全新的NIL工藝，一旦在范圍內(nèi)推廣，屆時EUV光刻機的市場必然會縮小。

因為NIL工藝相比EUV工藝不僅能節(jié)約的電耗成本，還有EUV光刻機成本，這兩點就能夠大大降低5nm等芯片的生產(chǎn)制造成本。

為了市場，ASML自然要在NIL工藝之前實現(xiàn)EUV光刻機普及，否則，影響就大了。所以，外媒才說，ASML官宣新款EUV光刻機！2年內(nèi)老款EUV光刻機可自由出貨。