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中國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)和荷蘭的光刻機(jī)技術(shù), 關(guān)鍵點(diǎn)的區(qū)別

來(lái)源:青島佳鼎分析儀器有限公司   2022年06月03日 09:08  

中國(guó)光刻機(jī)和荷蘭光刻機(jī)的差距是全方面的,這里面不僅是系統(tǒng)集成商的差距,也包括各種核心配件上的差距,比如光源、鏡頭、軸承等等一些精密部件。

系統(tǒng)集成商上的差距

目前我國(guó)能量產(chǎn)的光刻機(jī)是90nm工藝,由上海微電子(簡(jiǎn)稱SMEE)生產(chǎn)。這點(diǎn)和荷蘭ASML生產(chǎn)的7nm光刻機(jī)可不是一代二代的差距,*是天壤之別,在整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中我們就是屬于低端產(chǎn)品,連中端都算不上。

荷蘭ASML光刻機(jī)

目前整個(gè)光刻機(jī)市場(chǎng)是荷蘭占據(jù)8成的市場(chǎng),中端主要是日系廠商尼康佳能,剩下我們國(guó)產(chǎn)的光刻機(jī)只能用于國(guó)內(nèi)一些低端市場(chǎng)(SMEE占了80%的份額)。而這個(gè)低端市場(chǎng)ASML未來(lái)也想吃掉,因?yàn)殡S著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,已經(jīng)成為二大光刻機(jī)市場(chǎng),潛力巨大。

當(dāng)然,這些年SMEE研發(fā)工作一直沒(méi)停過(guò),差距也再一點(diǎn)點(diǎn)的縮小。早在2018年時(shí)已經(jīng)在驗(yàn)證65nm工藝的光刻機(jī),從時(shí)間上來(lái)說(shuō)已經(jīng)差不多可以量產(chǎn)了,剩下45nm工藝的光刻機(jī)也在研發(fā)中。

為何我國(guó)光刻機(jī)會(huì)有如此差距

那么為什么我國(guó)的光刻機(jī)會(huì)和荷蘭ASML出現(xiàn)較大的差距?如果要深究的其實(shí)就兩點(diǎn),一是歐美西方國(guó)家對(duì)我國(guó)的,二是國(guó)產(chǎn)配件跟不上。

1、歐美產(chǎn)業(yè)鏈對(duì)我國(guó)的禁運(yùn):

荷蘭ASML光刻機(jī)之所以能做成,最關(guān)鍵的一點(diǎn)就是能在范圍內(nèi)拿到配件,如德國(guó)蔡司的鏡頭,美國(guó)的光源系統(tǒng),瑞典的軸承?,F(xiàn)在ASML 7nm光刻機(jī)整體有13個(gè)子系統(tǒng),其中90%的配件都是向各種制造商采購(gòu)。ASML拿到這些配件在經(jīng)過(guò)自己的精密設(shè)計(jì)和制造將其打造成一臺(tái)的光刻機(jī)。

而SMEE無(wú)法像荷蘭ASML一樣實(shí)現(xiàn)采購(gòu),根據(jù)1996年歐美簽署的瓦森納協(xié)議,歐美很多高精端儀器或者配件都對(duì)中國(guó)禁運(yùn)。這種禁運(yùn)對(duì)光刻機(jī)造成了很致命的打擊,其實(shí)很多人可能不知道,SMEE早在2008年就研發(fā)出來(lái)了90nm前道光刻,但是由于禁運(yùn)一直無(wú)法正式商用,最后不得不重新轉(zhuǎn)向去研發(fā)后道光刻機(jī)。

ASML光刻機(jī)細(xì)節(jié)圖

2、國(guó)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)依舊落后:

由于國(guó)外對(duì)中國(guó)進(jìn)行禁運(yùn),我國(guó)現(xiàn)有光刻機(jī)不得不使用國(guó)產(chǎn)核心組件,而這也是與荷蘭ASML差距較大的原因之一,很多的核心組件都無(wú)法和國(guó)外廠商的配件相比。目前國(guó)內(nèi)這塊的差距是移動(dòng)精度控制,其次是光學(xué)系統(tǒng),比如激光光源等。

當(dāng)然,在光刻機(jī)核心子系統(tǒng)上我國(guó)也是在努力追趕,比如雙工件臺(tái)有清華大學(xué)承辦研發(fā)(見(jiàn)下圖)華卓精科進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化,長(zhǎng)春光機(jī)所承辦研制物鏡,科益宏源在光源方面實(shí)現(xiàn)了ArF準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù),以上這些廠商的努力將有助于最后SMEE集成制造出更*的光刻機(jī)。

綜合來(lái)說(shuō),荷蘭ASML能打造出的光刻機(jī)是因?yàn)槠浔澈笳麄€(gè)發(fā)達(dá)的歐美產(chǎn)業(yè)鏈,是西方資本以及整個(gè)半導(dǎo)體工業(yè)合力堆砌出來(lái)的企業(yè),沒(méi)有這些企業(yè)ASML也是白搭。而我國(guó)未來(lái)想要能追趕上荷蘭ASML,制造出*的光刻機(jī),不僅需要各種核心組件要有新的技術(shù)突破,更需要整個(gè)半導(dǎo)體上下游產(chǎn)業(yè)一起努力。

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