或許對于大部分朋友來說，對ASML的了解，只是知道ASML可以生產(chǎn)制造EUV光刻機(jī)，但是目前還無法向我們供貨，不過在DUV光刻機(jī)上，供貨還是沒有問題的。

而對于DUV光刻機(jī)，可能大家了解的就不是很多了，實(shí)際上，DUV光刻機(jī)經(jīng)過了三次比較大幅度的發(fā)展，最終沒有辦法才走向了發(fā)展EUV光刻機(jī)的道路。

對于ASML來說，當(dāng)時研發(fā)EUV光刻機(jī)，也是捏了一把汗，因?yàn)槿绻邪l(fā)失敗，ASML很有可能就失去了在光刻機(jī)市場的地位。

雖然ASML的DUV光刻機(jī)可以出貨，但是有分析師表示，ASML到底還是”留了一手“。

這里我們就有必要對DUV光刻機(jī)進(jìn)行一些簡單的介紹，大致上DUV光刻機(jī)分為三個類型，分別是KRF、ARF和ARFi三種，對應(yīng)的波長分別是248納米、193納米和134納米。

實(shí)際上ARF和ARFi屬于同一光源，只不過ARFi加入了浸沒系統(tǒng)，所以最終光刻機(jī)的等效波長，經(jīng)過超凈水的折射，變成了134納米，因此這類光刻機(jī)也被稱為濕法光刻機(jī)，ARF就被稱之為干法光刻機(jī)。

目前我們的國產(chǎn)光刻機(jī)分辨率上已經(jīng)做到了90納米，可以生產(chǎn)65納米的芯片，屬于ARF光刻機(jī)。

但是近些年來我們看到，很多我們國內(nèi)的廠商，依然在選擇ASML的ARF光刻機(jī)，其中有很多廠商，只是購買光刻機(jī)來測試自家的產(chǎn)品，我們國產(chǎn)光刻機(jī)其實(shí)也可以滿足要求。

而這里就是分析師所說的ASML到底還是”留了一手“。

雖然同樣都是可以滿足測試要求的ARF光刻機(jī)，可以支持的工藝水平也是差不多的，但是ASML在此之上，還推出了其他的升級服務(wù)。

具體來說，ASML開發(fā)了一種叫作”浸入式轉(zhuǎn)換“的技術(shù)，其可以將客戶購買的”干法“光刻機(jī)升級到"濕法”光刻機(jī)。

這樣話，客戶就不用購買新的“濕法”光刻機(jī)了，不得不說，這項(xiàng)轉(zhuǎn)換技術(shù)很有針對性。

因?yàn)樯厦嫖覀円蔡岬搅?，我們國產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)完成“干法”技術(shù)，正在向著“濕法”光刻機(jī)推進(jìn)，而ASML此舉，無疑讓我們國產(chǎn)“干法”DUV光刻機(jī)受到冷落。

不得不說，ASML利用EUV光刻機(jī)在市場發(fā)起“進(jìn)攻”，但是在DUV光刻機(jī)市場也不忘“防守”，ASML到底“留了一手”。

不過這種情況不會持續(xù)太久了，因?yàn)楦鶕?jù)之前的媒體報道，我國光刻機(jī)曝光系統(tǒng)供應(yīng)鏈企業(yè)國望光學(xué)的工廠即將開建，屆時將可以提供滿足“濕法”DUV光刻機(jī)所需要的物鏡系統(tǒng)。

這就意味著，我們國產(chǎn)DUV光刻機(jī)也將進(jìn)入“濕法”階段，ASML的最后屏障將只剩下EUV光刻機(jī)。

不得不說，ASML“留了一手”也不奇怪，這就像賽跑，如果要保證自己一直，除了自己要跑得快，還要想辦法讓對手跑得慢。

我們在追趕的過程中，難免要經(jīng)歷一些風(fēng)雨，不可能是一帆風(fēng)順，但是風(fēng)雨過后是彩虹，ASML的“小伎倆”是無法阻止我們的“大目標(biāo)”的，我們拭目以待。