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低溫等離子體技術(shù)在粉體表面處理中的應(yīng)用

來源:深圳納恩科技有限公司   2025年02月22日 07:38  

低溫等離子(Low-termperature plasma)是放電氣體的整體溫度等于或稍高于室溫的一種等離子體狀態(tài)。低溫等離子體放電過程中會(huì)產(chǎn)生電子、離子、原子自由基、紫外線、高能射線等活性粒子,具有的分子活化能力,從而引發(fā)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行低溫等離子體放電過程中會(huì)產(chǎn)生電子、離子、原子自由基、紫外線、高能射線等活性粒子,具有的分子活化能力,從而引發(fā)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行,低溫等離子體用于粉體處理具有設(shè)備簡(jiǎn)單、無需溶劑、放電形式多、適用范圍廣、連續(xù)性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),因此在處理氣態(tài)、液態(tài)和固態(tài)物質(zhì)等方面都有研究和應(yīng)用。

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1 無機(jī)粉體的表面處理

無機(jī)粉體表面處理的目的主要是抑制其團(tuán)聚,增加其在聚合物中的分散性和相容性。利用無機(jī)粉體與聚合物形成復(fù)合材料可以賦予體系更好的力學(xué)、光學(xué)、電學(xué)等性能,被越來越多地用于電子、生物、膜分離、催化、航空航天等高技術(shù)領(lǐng)域。

 

傳統(tǒng)的濕法改性存在工藝復(fù)雜、環(huán)境友好性差等不足,低溫等離子體法表面處理技術(shù)由于工藝簡(jiǎn)單、無需溶劑、節(jié)能高效等特點(diǎn)而成為比較理想的粉體表面處理的方法。

 

低溫等離子體對(duì)無機(jī)粉體的表面處理多利用聚合性單體和引發(fā)氣體混合放電。其中放電引發(fā)氣體產(chǎn)生活性粒子,引發(fā)聚合性單體在粉體表面接枝聚合,形成改性覆層的技術(shù)。

 

2 有機(jī)粉體表面改性

聚合物粉體通常具有較高的表面能,疏水性高,與無機(jī)粉體相容性差等影響了其加工性能和復(fù)合效果。聚合物粉體表面處理可以在其表面引人活性官能團(tuán)、增加親水性。低溫等離子體

處理聚合物粉體具有工藝簡(jiǎn)單,干法生產(chǎn),不損傷材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)、連續(xù)性強(qiáng)等特點(diǎn)。

 

低溫等離子體對(duì)聚合物表面作用根據(jù)處理材料的不同,放電參數(shù)的強(qiáng)弱,放電氣體的差異,處理時(shí)間的長(zhǎng)短等而產(chǎn)生截然不同的表面處理效果。一般采用的放電氣體是Ar、He、ON,空氣等非聚合性氣體,表面處理過程是在等離子體中活性粒子的作用下,聚合物粉體表面發(fā)生激活、電離,并產(chǎn)生自由基與基體發(fā)生反應(yīng),在基體表面形成-C=O、-0H、-NH:等官能性基團(tuán)或生成交聯(lián)改性表層等。

 

聚合物粉體表面鍵能要比無機(jī)粉體鍵能弱,更容易受到放電的影響,所以處理的時(shí)間和等離子體的強(qiáng)度通常小于對(duì)無機(jī)粉體的處理。采用放電區(qū)和處理區(qū)分離的方法可以避免聚合物

粉體表面灼傷,增加處理均勻性,適合處理一些溫敏性、熱敏性聚合物粉體。

 

低溫等離子體技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、高效快速、節(jié)能環(huán)保等特點(diǎn),是一種“綠色”特征明顯的粉體表面處理技術(shù),開發(fā)潛力巨大,應(yīng)用前景廣闊,低壓等離子體需要真空操作,成本亮,可控性差等。


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