等離子清洗機(jī)（plasmacleaner）也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。中文名等離子清洗機(jī)外文名Plasmacleaner別名等離子表面
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摘要 作為在實(shí)驗(yàn)室中使用的等離子體研發(fā)平臺(tái)，我們努力嘗試為客戶解決一切可能在實(shí)驗(yàn)活動(dòng)中遇到的需求?！耙?yàn)槭亲约貉邪l(fā)的，所以我們知道怎么改！”我們的總工這樣評(píng)價(jià)我們的研發(fā)能力。我們非常樂意傾聽用戶需求，與用戶一起合作，制造出能夠幫助客戶解決問題的設(shè)備。
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摘要 甲岸Plasma真空等離子清洗機(jī)一般包括真空系統(tǒng),電源系統(tǒng),供氣系統(tǒng)和清洗室,清洗室內(nèi)安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應(yīng)不同的清洗場(chǎng)合。甲岸等離子清洗機(jī)
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摘要 甲岸Plasma真空等離子清洗機(jī)一般包括真空系統(tǒng),電源系統(tǒng),供氣系統(tǒng)和清洗室,清洗室內(nèi)安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應(yīng)不同的清洗場(chǎng)合。甲岸等離子清洗機(jī)
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摘要 矽碁還專為客戶定制過性價(jià)比的PECVD與RIE聯(lián)合系統(tǒng)，該聯(lián)合系統(tǒng)采用統(tǒng)一的真空氣路及電控系統(tǒng)，在實(shí)現(xiàn)多功能的前提下有效節(jié)省成本
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摘要 反應(yīng)離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過產(chǎn)生的等離子體對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)和物理刻蝕
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摘要等離子清洗機(jī)VP-R5真空腔體石英材質(zhì)，頻率13.56MHz，能對(duì)材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運(yùn)行30分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLAS...
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摘要真空等離子清洗機(jī)VP-R3真空腔體石英材質(zhì)，頻率13.56MHz，能對(duì)材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運(yùn)行30分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PL...
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摘要NPC-3500（A）研發(fā)用等離子去膠機(jī)：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力...
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摘要 NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)：是一款手動(dòng)放片/取片，但工藝過程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。
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摘要 NIE-3500（A）全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)：是一款自動(dòng)放片/取片，并且工藝過程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。
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摘要 LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的一體化系統(tǒng)，可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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摘要LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)為全自動(dòng)機(jī)械手上下載片，可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功...
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摘要 SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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摘要 SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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摘要SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級(jí)為多系統(tǒng)的集成架構(gòu)。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子...
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摘要NPC-3000等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:...
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摘要NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具...
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摘要NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 系列屬于寬束型離子源, 散射角度45.霍爾離子源氣體流量可選 2-25sccm/ 2-50sccm/ 2-50sccm/ 2-75sccm/ 5-100sccm 等不同級(jí)別.霍爾離子源電流可選 5A...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 3...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 屬于無柵網(wǎng)離子源. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / ...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 10, 寬束柵網(wǎng)離子源,最小型號(hào)的離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 10 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 (柵網(wǎng)離子源) KDC40. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 100 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical fl...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 75, 緊湊柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 250 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流....
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摘要上海伯東代理美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 100, 屬于中型規(guī)格柵網(wǎng)離子源. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 400 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 燈絲.采用雙陰極燈絲和自對(duì)準(zhǔn)柵網(wǎng).加熱燈絲產(chǎn)生電...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 40, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.KRI 射頻離子源 RFICP 40 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 100 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源 (柵網(wǎng)離子源), 離子束流: 350 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000....
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.離子束流: 600 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / 電流: 50-30...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場(chǎng)上, 提供離子束流的無柵網(wǎng)離子源.尺寸: 直徑= 9.7 高= 6放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A操作氣...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 160. 屬于柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 650 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 系列. 屬于柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 10 mA~650 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵網(wǎng)離子源.離子束流: 800 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.離子束流: 100 mA~1500mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng), 更適合...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 離子源, 99%原廠.KRI 射頻離子源 RFICP 380 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 1500 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.離子束可聚焦, 平行, 散射.采用射...
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摘要等離子體清洗好處,對(duì)PTFE進(jìn)行等離子活化處理,蝕刻工藝,為彈性密封件和PTFE密封件研發(fā)了很好的等離子工藝,并得到了應(yīng)用,等離子體清洗與其它清洗方式對(duì)比表.等離子體清洗好處： １、其除去了有機(jī)層（含碳污染物），其會(huì)受到例如，氧氣和空氣的化腐蝕，通過超壓吹掃，將其從表...
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摘要 簡(jiǎn)要描述：等離子清洗器YZD08-2C;*個(gè)引進(jìn)了美國(guó)霍尼韋爾真空壓力傳感器使得機(jī)器在智能控制下有了可靠的依據(jù);采用艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料，稱之為全防腐型;該儀器實(shí)現(xiàn)了手動(dòng)，自動(dòng)兩種模式任意切換的工作方式
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摘要 AAC54 PLUS酸逆流清洗器，采用*技術(shù)，通過相對(duì)密閉的腔體內(nèi)酸蒸汽持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、PTFE等材質(zhì)的試管及附件上面的任何痕量金屬污染物*清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
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摘要 AAC54 PLUS酸逆流清洗器，采用*技術(shù)，通過相對(duì)密閉的腔體內(nèi)酸蒸汽持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、PTFE等材質(zhì)的試管及附件上面的任何痕量金屬污染物*清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 3...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”放電電壓 / 電流: 50-3...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”放電電壓 / 電流: 50-...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場(chǎng)上高效, 提供高離子束流的離子源.尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“放電電壓 / 電流: 50-300V / 20...
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