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上海伯東 KRI 小型 霍爾離子源 eH 200

參考價(jià)訂貨量

300000

≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時(shí)間2025-10-25
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10150
產(chǎn)品標(biāo)簽

離子源離子槍射頻源KRI

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         位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠(chǎng)測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專(zhuān)業(yè)技能和服務(wù)意識(shí),并獲得原廠(chǎng)*維修資質(zhì)證書(shū)。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。

          另外公司還是美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 德國(guó) 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機(jī), 美國(guó)  HVA 真空閥門(mén), 美國(guó)  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本  Atonarp過(guò)程質(zhì)譜儀  和  美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!



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安裝方式螺紋連接固定 材質(zhì)不銹鋼 產(chǎn)地進(jìn)口
工作原理其他 加工定制 冷卻方式直接冷卻
適用領(lǐng)域塑料,食品,包裝,冶金,機(jī)械,紡織,制冷,烘箱,其他
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計(jì)離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡(jiǎn)單是理想的生產(chǎn)工具.
上海伯東 KRI 小型 霍爾離子源 eH 200 產(chǎn)品詳情

價(jià)格電議

霍爾離子源 eH 200

KRI 霍爾離子源 eH 200
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計(jì)離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡(jiǎn)單是理想的生產(chǎn)工具.

KRI 霍爾離子源 eH 200 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

eH 200

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

40-300V VDC

  - 離子源直徑

~ 2 cm

  - 陽(yáng)極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-3005A

配置

-

  - 陰極中和器

Filament or Hollow Cathode

  - 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽(yáng)極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

  - 水冷

無(wú)

  - 底座

移動(dòng)或快接法蘭

  - 高度

2.0'

  - 直徑

2.5'

  -加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

  -工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

  - 安裝距離

6-24”

  - 自動(dòng)控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 200 應(yīng)用領(lǐng)域:
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD


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