一、高溫真空接觸角測量儀_熔體潤濕角測試儀

二、前言

   *，納米材料科學(xué)與工程已經(jīng)成為世界性的研究熱點(diǎn)，在研究納米材料的表面改性時(shí)，往往要涉及潤濕接觸角這個(gè)概念。所謂接觸角是指在一固體水平平面上滴一液滴，固體表面上的固－液－氣三相交界點(diǎn)處，其氣－液界面和固－液界面兩切線把液相夾在其中時(shí)所成的角。

   表面能是創(chuàng)造物質(zhì)表面時(shí)對分子間化學(xué)鍵破壞的度量。在固體物理理論中，表面原子比物質(zhì)內(nèi)部的原子具有更多的能量，因此，根據(jù)能量低原理，原子會(huì)自發(fā)的趨于物質(zhì)內(nèi)部而不是表面。表面能的另一種定義是，材料表面相對于材料內(nèi)部所多出的能量。

   液體表面任意二相鄰部分之間垂直于它們的單位長度分界線相互作用的拉力。表面張力的形成同處在液體表面薄層內(nèi)的分子的特殊受力狀態(tài)密切相關(guān)。表面張力的存在形成了一系列日常生活中可以觀察到的特殊現(xiàn)象。

三、高溫真空接觸角測量儀_熔體潤濕角測試儀應(yīng)用領(lǐng)域

   TFT-LCD面板行業(yè)：玻璃面板潔凈度與鍍膜質(zhì)量測量；TFT打印電路、彩色濾光片、 ITO導(dǎo)體膠卷等前涂層質(zhì)量測量

   印刷、塑膠行業(yè)：表面清潔與附著質(zhì)量測量；油墨附著度測量；膠水膠體性質(zhì)相容性測量；染料的緊扣度

   半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)：晶圓的潔凈度測量；HMDS的處理控制；CMP的研究測量、光阻與顯影劑的研究

   化學(xué)材料研究：防水與親水性能材料研究探討；表面活性與清潔劑的張力、濕性；黏性增強(qiáng)與附著表面能測量

   IC封裝：基質(zhì)表面潔凈度；原子合成氧化識(shí)別；BGA焊接表面；環(huán)氧化物的附著度測量

四、介紹

   本公司儀采用現(xiàn)代化工藝制造，儀器采用*的CCD數(shù)字?jǐn)z像機(jī)，配倍高分辨率變焦式顯微鏡和高亮度LED背景光源系統(tǒng)，搭配三維樣品臺(tái)，可進(jìn)行工作臺(tái)上下、左右、前后等方向移動(dòng)。實(shí)現(xiàn)微量進(jìn)樣及上下、左右精密移動(dòng)。同時(shí)還設(shè)計(jì)了伸縮桿結(jié)構(gòu)工作臺(tái)，能適應(yīng)在不同用戶材料厚度加大的場合。儀器框架可以根據(jù)式樣的大小適量調(diào)節(jié)，擴(kuò)大了儀器的使用范圍。軟件搭配修正功能，測試多次后的結(jié)果可以同時(shí)保存在同一報(bào)告下，能讓用戶更好的對材料數(shù)據(jù)進(jìn)行管控。該儀器設(shè)計(jì)美觀大方、操作簡單、符合用戶所需。適用于各種行業(yè)測定接觸角的用戶