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射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜 鍍膜機

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10091
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         位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

          另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 德國 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機, 美國  HVA 真空閥門, 美國  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時Europlasma 等離子表面處理機 , 日本  Atonarp過程質(zhì)譜儀  和  美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!



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上海伯東離子源典型應(yīng)用: 射頻離子源 RFICP 325 安裝在 1650 mm 蒸鍍機中, 實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產(chǎn).射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜
射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜 鍍膜機 產(chǎn)品詳情

價格電議
 KRI 射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜
上海伯東美國 KRI 射頻離子源成功應(yīng)用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場. 隨著對鍍膜品質(zhì)要求的不斷提升, 使用霍爾離子源輔助鍍膜已經(jīng)無法滿足鍍膜應(yīng)用市場, 國內(nèi)某 LED 制造商經(jīng)過我司*采用射頻離子源 RFICP 325 安裝在 DBR 生產(chǎn)設(shè)備 1650 mm 蒸鍍機中. 成功實現(xiàn)光學(xué)鏡頭鍍膜并通過脫膜測試!

上海伯東射頻離子源客戶案例: 國內(nèi)某 LED 制造商
1. 離子源應(yīng)用: LED-DBR 鍍膜生產(chǎn)
2. 系統(tǒng)功能: 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國 KRI 射頻離子源 RFICP 325. 離子源 RFICP 325 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界較高等級, 離子源 RFICP 325 特殊的柵極設(shè)計 E22 Grided 可以涵蓋 1650 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 substrate holder, 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達(dá)到生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過射頻離子源 RFICP 325 實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的 LED-DBR 無論是亮度測試, 脫膜測試, 頂針測試, 光學(xué)特性等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機所搭配的離子源.

上海伯東射頻離子源安裝案例: KRI RFICP 325 射頻離子源安裝于 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
上海伯東考夫曼離子源
上海伯東考夫曼離子源

KRI 射頻離子源測試案例: LED-DBR 脫膜測試.
1. 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試
上海伯東美國 KRI 離子源

2. 測試結(jié)果
上海伯東RFICP325脫模測試

--------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美國考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------

從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國考夫曼離子源, 樣品無崩邊
 

上海伯東美國射頻離子源 KRI  RFICP 325 優(yōu)點:
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質(zhì)
模塊化設(shè)計, 保養(yǎng)快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學(xué)膜后折射率
全自動控制設(shè)計, 操作簡易
低耗材成本, 安裝簡易

上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國總代理. 美國考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請聯(lián)絡(luò)上海伯東葉小姐,分機109

射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜
射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜

關(guān)鍵詞:鍍膜機 顯微鏡
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