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公司介紹主營產(chǎn)品

位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 德國普發(fā) Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 日本 NS 離子蝕刻機, 美國 HVA 真空閥門, 美國 Gel-pak 芯片包裝盒,比利時Europlasma 等離子表面處理機 , 日本 Atonarp過程質(zhì)譜儀和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!

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產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進口	加工定制	否

上海伯東離子源典型應(yīng)用: 安裝在離子蝕刻機中的 KRI 射頻離子源, 對應(yīng)用于半導(dǎo)體后端的6寸晶圓進行刻蝕

射頻離子源典型應(yīng)用 IBE 離子蝕刻鍍膜機產(chǎn)品詳情

價格電議
KRI 射頻離子源典型應(yīng)用 IBE 離子蝕刻
上海伯東美國 KRI 射頻離子源安裝在日本 NS 離子蝕刻機中, 對應(yīng)用于半導(dǎo)體后端的 6寸晶圓進行刻蝕
Hakuto (NS) 離子蝕刻機技術(shù)規(guī)格:

型號	NS 7.5IBE	NS 10IBE	NS 20IBE-C	NS 20IBE-J
適用范圍	適用于科研院所,實驗室研究	適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究	適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機	適合大規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機
基片尺寸	Φ4 X 1片或 Φ6 X 1片	φ8 X 1片	φ3 inch X 8片 φ4 inch X 6片 φ8 inch X 1片	Φ4 inch X 12片 φ5 inch X 10片 φ6 inch X 8片
離子源	8cm 或 10cm 考夫曼離子源	10cm NS離子源	20cm 考夫曼離子源	20cm 考夫曼離子源

上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長
RFICP 系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源, 電子供應(yīng)器, 中和器, 電源控制等
RFICP 系列離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均勻性,附著力等

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 歡迎聯(lián)絡(luò)上海伯東葉小姐,分機109
射頻離子源典型應(yīng)用 IBE 離子蝕刻
射頻離子源典型應(yīng)用 IBE 離子蝕刻

關(guān)鍵詞：科研院

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