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半導(dǎo)體排氣監(jiān)測(cè)用質(zhì)譜分析儀 Aston™

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  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國(guó)外
  • 更新時(shí)間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
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  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10546
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         位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí),并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。

          另外公司還是美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 德國(guó) 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機(jī), 美國(guó)  HVA 真空閥門, 美國(guó)  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本  Atonarp過程質(zhì)譜儀  和  美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!



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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制否
上海伯東日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 專為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì), 實(shí)現(xiàn)工藝過程控制, 作為一個(gè)*的平臺(tái), Aston™ 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷并在一系列應(yīng)用中提供的控制水平, 適用于光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
半導(dǎo)體排氣監(jiān)測(cè)用質(zhì)譜分析儀 Aston™ 產(chǎn)品詳情

價(jià)格貨期電議

海伯東代理日本 Atonarp 推出半導(dǎo)體排氣監(jiān)測(cè)用質(zhì)譜分析儀  Aston™
上海伯東日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 專為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì), 實(shí)現(xiàn)工藝過程控制, 作為一個(gè)*的平臺(tái), Aston™ 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷并在一系列應(yīng)用中提供控制水平, 適用于光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
半導(dǎo)體過程控制在線質(zhì)譜儀 Aston™

Aston™ 質(zhì)譜分析儀耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液, 能夠在半導(dǎo)體生產(chǎn)遇到的惡劣工況下可靠運(yùn)行, 與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比, 使用 Aston™ 的維修間隔更長(zhǎng). 它包括自清潔功能, 可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導(dǎo)致的污垢積累.

Aston™ 特性
實(shí)時(shí)過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺(tái), 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù)
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產(chǎn)工具*集成

Atonarp  Aston™ 技術(shù)參數(shù)

類型

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

型號(hào)

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

質(zhì)量分離

四級(jí)桿

真空系統(tǒng)

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

檢測(cè)器

FC /SEM

質(zhì)量范圍

2-285

2-220

2-285

分辨率

0.8±0.2

檢測(cè)限

0.1 PPM

工作溫度

15-35“℃

功率

350 W

重量

15 kg

尺寸

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

 

Aston™ 質(zhì)譜分析儀 CVD 典型應(yīng)用: Dry pump 干泵排氣在線監(jiān)測(cè),診斷
在惡劣的 CVD 環(huán)境中, Aston™ 利用可操作的數(shù)據(jù)預(yù)測(cè)和預(yù)防因 PV-CVD 干泵引起的災(zāi)難性故障, 能夠?qū)ζ茐男愿g或沉積進(jìn)行預(yù)測(cè)建模, 優(yōu)化氮?dú)獯祾叱杀?
適用場(chǎng)景: 多個(gè)腔室連接到1個(gè)干泵, 高濃度的電介質(zhì)會(huì)導(dǎo)致災(zāi)難性的泵故障 (一次損失 10-100 片的晶圓)

Aston CVD 典型應(yīng)用: Dry pump 干泵排氣在線監(jiān)測(cè),診斷

通過使用上海伯東 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 可以提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 此款質(zhì)譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進(jìn)行安裝, 也可將其加裝到已運(yùn)行的現(xiàn)有腔室, 可在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!

若您需要進(jìn)一步的了解 Atonarp  Aston™ 在線質(zhì)譜分析儀詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)聯(lián)絡(luò)上海伯東葉女士

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半導(dǎo)體排氣監(jiān)測(cè)用質(zhì)譜分析儀  Aston™ 
半導(dǎo)體排氣監(jiān)測(cè)用質(zhì)譜分析儀  Aston™ 

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