公司介紹：

NTT-AT有著多年的X射線、極紫外光學(xué)配件的研發(fā)與銷售經(jīng)驗(yàn)。在范圍內(nèi)，通過(guò)與眾多來(lái)自同步輻射科學(xué)，阿秒科學(xué)，高強(qiáng)度物理學(xué)等領(lǐng)域的科學(xué)研究者開(kāi)展緊密合作，積累了大量*的設(shè)計(jì)與制造技術(shù)，其產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)享有很高的評(píng)價(jià)。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率，高聚光效率等特點(diǎn)，適合被各種輻射光設(shè)施使用。另外，分辨率測(cè)試卡被當(dāng)作業(yè)界的標(biāo)準(zhǔn)。不只是學(xué)術(shù)研究，在X射線的檢查裝置開(kāi)發(fā)現(xiàn)場(chǎng)也被廣泛使用。XUV鏡片，XUV濾波片不僅對(duì)阿秒科學(xué)有著幫助，對(duì)下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X線領(lǐng)域給予客戶在研發(fā)上的幫助。

產(chǎn)品介紹：

世界上只有恩梯梯技術(shù)公司生產(chǎn)基于SiC膜的 FZP

優(yōu)點(diǎn)：

恩梯梯技術(shù)公司的由SiC膜和Ta吸收體圖案組成的菲涅耳波帶板（FZP）具有出色的高耐X射線輻射性、高分辨率和高對(duì)比度。
只有恩梯梯技術(shù)公司提供基于SiC膜的菲涅耳波帶板（FZP）具有出色的高耐X射線輻射性。恩梯梯技術(shù)公司的FZP由干法蝕刻的Ta組成。吸收體圖案清晰，S/N比高，成像缺陷少, 能理想地應(yīng)用于X射線顯微鏡、X射線微光束輻射和X射線成像。
另外，還提供用于軟X射線和極紫外（EUV、XUV）領(lǐng)域的Ta圖案／SiN膜型FZP和Au板圖案／SiN 膜型FZP。并提供臺(tái)階式（基諾全息照片）FZP。

特點(diǎn):

• 能用于X射線顯微鏡、EUV顯微鏡、X射線微光束輻射和同步加速器輻射光束監(jiān)視等各種X射線應(yīng)用。

• 出色的高耐X射線輻射性

• 最小區(qū)域?qū)挾冗_(dá)25納米

• 可定制FZP

菲涅耳波帶板（FZP）的X射線吸收體圖案

可按要求定制設(shè)計(jì)FZP，滿足用戶的特殊X射線能量、光學(xué)設(shè)置和聚焦、圖像性能。如果本公司的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品商品目錄中沒(méi)有所需的產(chǎn)品，請(qǐng)聯(lián)系我們。

圖案示意圖
（φ2.5mm）（光學(xué)顯微鏡）

以對(duì)角觀察的SEM圖
（SEM）

菲涅耳波帶板（FZP）的結(jié)構(gòu)

二進(jìn)制型

臺(tái)階（基諾全息照片）式

※我們可與用戶商討不同需求。