沉積和表征：

層沉積

我們對多種材料組合的單層和多層鍍膜有豐富的經(jīng)驗(yàn)，我們既可以沉積單層膜條紋，亦可得到在橫向與深度上有不同厚度梯度的最長可達(dá)150cm的多層鍍膜。該涂層的特點(diǎn)是均勻性好，粘附力強(qiáng)，高密度，低粗糙度和高反射率。

Fig.1 Linear sputter coating unit with 4 different target materials

XRR 表征

多層膜參數(shù)，如層厚、密度均勻性、粗糙度、反射率和反差系數(shù)比用Cu-Kα(8048eV)在膜的不同位置用XRR進(jìn)行表征。

Fig.2 The thickness uniformity over 150 cm is better than1%

多層膜的XRR測量

多層鍍膜由 X 射線反射法（XRR）檢測。通過對一階Bragg 峰的定量分析，可測定大反射率、積分強(qiáng)度與能量分辨率。

通過 XRR 測量，可對鍍層的界面粗糙度與材料密度進(jìn)行推演以獲得盡可能明晰和平滑的界面，同時(shí)也是為了在單層之間獲得的密度差。布拉格峰角度可以用來計(jì)算雙層厚度周期，這就是所謂的d值。

Fig.3 Laterally Graded Multilayer Optics: The film thickness variation along the substrate and the ideal and acceptable thickness gradients are shown.

應(yīng)用介紹：

全反射鏡片

全反射鏡在同步輻射射束線站上被用于射束的引導(dǎo)和準(zhǔn)直。此類鏡片用于 X 射線掠入射。因此需要越來越多的長度100cm甚至更長的光學(xué)鏡片。

Fig.4 Various mirror substrates: 50 cm fused silica, 60 cm Zerodur®, 100 cm silicon

Fig.5 Stripe coating on a 50 cm silicon substrate

多層膜光學(xué)組件

這些光學(xué)組件包含多層薄膜，達(dá)到只有幾納米厚的單層膜都是非晶。多層膜可能有幾百層，如果材料有高密度差同時(shí)有低吸收率，X 射線相關(guān)的兩個(gè)參數(shù)吸收和色散依賴 X 射線波長。所以要達(dá)到優(yōu)異效果，每種波長都需要特定的多層膜。為了滿足客戶特殊要求，我們可以進(jìn)行 X 射線光學(xué)模擬。就可獲得高反射率。

Fig.6 Bendable 400 mm silicon multilayer optics

雙晶體多層膜單色器

在成像用射束線站中，多層膜光學(xué)組件常被用作雙晶體多層單色器（DCMM）。例如，斷層掃面中，一個(gè)均勻和穩(wěn)定的光束輪廓是必需的，以便進(jìn)行背景校正。但由于輻射的強(qiáng)干擾性，在設(shè)計(jì)光學(xué)組件的時(shí)候須特別謹(jǐn)慎以避免光束質(zhì)量退化。我們生產(chǎn)的多層鍍膜，可含多至5種條紋，薄膜不均勻度低于0.2%且厚度具有橫向梯度。