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MLA 100 無掩模光刻儀

MLA 100 無掩模光刻儀產(chǎn)品詳情

MLA100 無掩模光刻

以實惠的價格，重點是高性能設計，MLA100是許多研發(fā)應用的光刻方案。該光學系統(tǒng)被設計以50平方毫米/分鐘直接進入光致抗蝕劑的速度來寫結構下降到1微米，而無需光掩模。光掩模從光刻工藝中消除會增加靈活性和顯著縮短成型或制造周期。該MLA100由曝光向導（GUI）控制，這通過完整的程序引導操作員來操作：加載基底，選擇設計和開始曝光。隨著60x1875px2的足跡MLA100的設計，以適應甚至到較小的研發(fā)實驗室，并且只需要為操作提供電源和壓縮空氣。

MLA100的應用領域包括生命科學，微機電系統(tǒng)，微光學，半導體，傳感器，執(zhí)行器，微光機電系統(tǒng)，材料研究，納米管，石墨烯，這任何一項應用都需要微光顯示結構。

主要特征：

寫速度 50mm^2/min

最小基板尺寸 6”x 6”

曝光區(qū)域 100×100mm^2

最小結構 1um

高功率LED光源

SLM基于光引擎

多種數(shù)據(jù)輸入格式

基本灰度曝光模式

對準攝像系統(tǒng)

實時自動對焦

優(yōu)化的曝光向導

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
成像輻照度測試系統(tǒng)	￥158000	杭州市	浙江虹譜光色科技有限公司	2026-09-23	在線詢價
HA350FRW全光譜近紅外輻照計	面議	杭州市	杭州貝諾光學科技有限公司	2026-09-23	在線詢價
全自動型激光粒度測試儀優(yōu)勢	面議	東莞市	廣東科寶試驗設備有限公司	2026-09-22	在線詢價
植物表型成像檢測系統(tǒng)	面議	杭州市	杭州雙色智能檢測儀器有限公司	2026-09-21	在線詢價
白光干涉儀半導體&LED刻蝕全流程測量方案	￥960000	深圳市	深圳市中圖儀器股份有限公司	2026-09-17	在線詢價
光化學反應儀	￥19000	濰坊市	山東優(yōu)云譜光電科技有限公司	2026-08-31	在線詢價

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