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橢圓計 (膜厚測定 多層膜解析 光弾性測定) M-series

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2026-07-10
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)沈陽市
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量33
  • 人氣值868
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橢圓計 (膜厚測定 多層膜解析 光弾性測定) M-series
橢圓計 (膜厚測定 多層膜解析 光弾性測定) M-series 產(chǎn)品詳情

橢圓率計 (測量膜厚 多層膜解析 測量光彈性) M-series

▼概要
日日本分光制的橢圓計配有日本分光產(chǎn)的PEM雙重鎖定方式和光伺服?光參考方式,實現(xiàn)高速性和高安定性。由于偏光素子的軸配置適合特別薄的膜和微小的偏光測量,所以主要用于向高集積化和高精細化發(fā)展的半導體及高機能光學薄膜等材料的評價。
◆規(guī)格
▼M-210/220/230/240/550/ELC-300
型號 M-210 M-220 M-230 M-240 M-550 ELC-300
測量方法 PEM雙重鎖定方式、光伺服/光參照控制方式
分光器 - 雙單色器
自動波長驅(qū)動裝置
雙單色器
(260~900nm)
單單色器
(900~1700nm)
自動波長
驅(qū)動裝置
單單色器
自動波長
驅(qū)動裝置
雙單色器
自動波長
驅(qū)動裝置
測量波長 He-Ne激光
(632.8nm)
He-Ne激光(632.8nm)
Xe光源
(260~860nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(240~700nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(26~900nm)
鹵素燈
(900~1700nm)
Xe光源
(350~800nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(260~860nm)
入射角范圍 40゜~ 90゜
連續(xù)自動設定
(0.01゜間隔)
45゜~ 90゜
連續(xù)自動設定
(0.01゜間隔)
40゜~ 90゜
連續(xù)自動設定
(0.01゜間隔)
膜厚測量范圍 0~99999?
測量時間 1msec以上 20μsec~16sec
測量準確度* 屈折率 ±0.01
膜厚 ±1?
消衰係數(shù) ±0.01
*準確度是指測量時間100msec以上。另外、根據(jù)表面狀態(tài)、膜質(zhì)不同準確度也不同。
樣品室 樣品垂直放 樣品水平放 樣品垂直放
檢測器 檢光子(Glan-Taylor棱鏡)
紫外可見區(qū)域:光電子倍増管 近紅外區(qū)域:InGaAs-PIN光電二極管(M-240)
▼軟件
主機標準 1.時間變化測量
2.膜厚測量
3.Δ-Ψ模擬
4.光譜測量?解析*1
5.誘電率計算*1
6.反射率計算*1
*1 M-210型號不是分光型不可使用
選項程序 1. 映射測量(自動X-θ帶映射臺)
2.多層膜解析*2
3.多入射角測量
4.靈敏度模擬*2
5.波長Cauchy光譜*3
6.橢圓率測量?解析、測量波長固定復屈折(帶異方性解析臺)*3
7.測量3次元屈折率(需要異方性解析臺)*3
8.測量光弾性定數(shù)(帶光弾性測量用透過臺)*3
*2 M-210不是分光型的不能使用
*3 M-550不能測量透過不能使用。







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測量方法 PEM雙重鎖定方式、光伺服/光參照控制方式
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雙單色器
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測量時間 1msec以上 20μsec~16sec
測量準確度* 屈折率 ±0.01
膜厚 ±1?
消衰係數(shù) ±0.01
*準確度是指測量時間100msec以上。另外、根據(jù)表面狀態(tài)、膜質(zhì)不同準確度也不同。
樣品室 樣品垂直放 樣品水平放 樣品垂直放
檢測器 檢光子(Glan-Taylor棱鏡)
紫外可見區(qū)域:光電子倍増管 近紅外區(qū)域:InGaAs-PIN光電二極管(M-240)

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主機標準 1.時間變化測量
2.膜厚測量
3.Δ-Ψ模擬
4.光譜測量?解析*1
5.誘電率計算*1
6.反射率計算*1
*1 M-210型號不是分光型不可使用
選項程序 1. 映射測量(自動X-θ帶映射臺)
2.多層膜解析*2
3.多入射角測量
4.靈敏度模擬*2
5.波長Cauchy光譜*3
6.橢圓率測量?解析、測量波長固定復屈折(帶異方性解析臺)*3
7.測量3次元屈折率(需要異方性解析臺)*3
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