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公司介紹主營產(chǎn)品

公司主營實驗室分析檢測儀器設備，以實驗室整體建設為發(fā)展方向。公司目前涉及電子電器、醫(yī)藥生物、石油化工、食品、機械、新材料、環(huán)境、科研高校等諸多領域。聯(lián)合山東醫(yī)藥化工設計院，美國安捷倫、美國熱電、日本島津、江蘇天瑞等眾多品牌及多個***重點實驗室從實驗室布局設計出圖、基礎設施建設、儀器設備供應、方法開發(fā)建立、后期運營管理，形成完整的專業(yè)實驗室建設體系，達到一站式服務，為眾多行業(yè)客戶提供更為*的整體解決方案。
公司主營產(chǎn)品分為四大類，光譜儀、色譜儀、質(zhì)譜儀和環(huán)境在線檢測。
能量色散X熒光光譜儀（EDX）、波長色散X熒光光譜儀（WDX）、等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)
、光電直讀光譜儀(OES）、原子吸收分光光度計(AAS)、原子熒光光譜儀(AFS)、拉曼光譜儀（Raman)、碳硫分析儀(CS)、紅外光譜儀、礦漿載流分析儀(OSA)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)、氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀（GC-MS)、液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀（LC-MS)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）、水質(zhì)在線分析儀（WAOL）；

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產(chǎn)品簡介在線詢價

隨著半導體芯片工藝技術的發(fā)展，工藝技術節(jié)點進入28納米以及14nm等更*等級，隨著工藝流程的延長以及越趨復雜，每個晶片在整個制造過程中需要超過200道清洗步驟，晶圓清洗變得更加復雜、重要以及富有挑戰(zhàn)性

至純科技單片式濕法清洗設備 Ultron S200/S300 產(chǎn)品詳情

隨著半導體芯片工藝技術的發(fā)展，工藝技術節(jié)點進入28納米以及14nm等更*等級，隨著工藝流程的延長以及越趨復雜，每個晶片在整個制造過程中需要超過200道清洗步驟，晶圓清洗變得更加復雜、重要以及富有挑戰(zhàn)性；清洗設備以及工藝也必須推陳出新，使用新的戶物理及化學原理，在滿足使用者的工藝需求條件下，也兼顧降低晶圓清洗成本和兼顧環(huán)境保護；

減少材料損傷（material loss）；
孔洞的清洗能力；
防止晶片結構損傷（pattern damage）；
金屬、材料及微粒子的交叉污染；
晶圓可靠性改善；

單片濕法設備的工藝應用

去膠及去膠后清洗
爐管及長膜前清洗
氧化層/氮化硅蝕刻
銅/鈦金屬蝕刻
聚合物去除
擦片清洗
化學機械研磨后清洗

單片清洗的亮點

可以提供完整的濕法工藝解決方案，及前瞻的技術規(guī)劃。
設備及工藝已經(jīng)通過國際一線大廠的驗證。
設備平臺及腔體設計種類多，可滿足客戶不同條件。
多層式結構腔體設計，化學品回收率可以達到95%以上。
自動清洗功能（腔體、排風口、化學品噴嘴及手臂），可避免交叉污染及減少微粒子。
*的自動工藝控制功能（片/批次），可以改善產(chǎn)品的均勻性。
可靠的視覺辨識功能，能立即偵測設備異常，預防產(chǎn)品異常。
IPA 干燥功能，可以減少微粒子及水痕。

ULTRON S2XX/S3XX

設備平臺: ULTRON S-Series

晶圓尺寸: 200mm/300mm，

相關技術: 全自動旋轉式濕法清洗適用制程: 晶體管, 連接體, 圖形化, *內(nèi)存, 封裝

名稱	描述
型號	? ULTRON S2XX	? ULTRON S3XX
晶圓尺寸	? 200mm	? 300mm
上料端口	? 4個	? 4個
工廠自動化	? OHT possible	? OHT possible
腔體	? 8個	? 12個, 雙層三排
化學品供應	? 多腔體可用	? 多腔體可用
產(chǎn)能	? Max=295	? Max=590
機械手臂	? Index Robot : 1個晶圓傳送機械手：2個	? Index Robot : 1個晶圓傳送機械手：2個
尺寸	? 2520（W）x 4180(D) x3800(H)	? 2400（W）x 4720(D) x2555(H)

關鍵詞：機械手

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
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