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二手翻新現(xiàn)貨Nikon步進(jìn)式光刻機(jī) NSR G8A

參考價(jià)
面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-05-27
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 所在地區(qū)青島市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量441
  • 人氣值18918
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公司主營實(shí)驗(yàn)室分析檢測儀器設(shè)備,以實(shí)驗(yàn)室整體建設(shè)為發(fā)展方向。公司目前涉及電子電器、醫(yī)藥生物、石油化工、食品、機(jī)械、新材料、環(huán)境、科研高校等諸多領(lǐng)域。聯(lián)合山東醫(yī)藥化工設(shè)計(jì)院,美國安捷倫、美國熱電、日本島津、江蘇天瑞等眾多品牌及多個***重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室從實(shí)驗(yàn)室布局設(shè)計(jì)出圖、基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)、儀器設(shè)備供應(yīng)、方法開發(fā)建立、后期運(yùn)營管理,形成完整的專業(yè)實(shí)驗(yàn)室建設(shè)體系,達(dá)到一站式服務(wù),為眾多行業(yè)客戶提供更為*的整體解決方案。
公司主營產(chǎn)品分為四大類,光譜儀、色譜儀、質(zhì)譜儀和環(huán)境在線檢測。
能量色散X熒光光譜儀(EDX)、波長色散X熒光光譜儀(WDX)、等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)
、光電直讀光譜儀(OES)、原子吸收分光光度計(jì)(AAS)、原子熒光光譜儀(AFS)、拉曼光譜儀(Raman)、碳硫分析儀(CS)、紅外光譜儀、礦漿載流分析儀(OSA)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)、氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀(GC-MS)、液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀(LC-MS)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)、水質(zhì)在線分析儀(WAOL);
 

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NIKONNSRG8A步進(jìn)式光刻機(jī)用于半導(dǎo)體功率器件制造工藝中的光刻工序,即將圖形投影到涂有光刻膠的硅片上的裝置,由此使得所需圖形區(qū)域的光刻膠曝光
二手翻新現(xiàn)貨Nikon步進(jìn)式光刻機(jī) NSR G8A 產(chǎn)品詳情

NIKON NSR G8A步進(jìn)式光刻機(jī)用于半導(dǎo)體功率器件制造工藝中的光刻工序,即將圖形投影到涂有光刻膠的硅片上的裝置,由此使得所需圖形區(qū)域的光刻膠曝光。

設(shè)備清單

ITEMS

Request & SPEC

Wafer size

200mm(8 Inch),

Wafer Loader Type

Type 1 & Type 2

Wafer

200mm (8 Inch)

Projection ratio

 5 : 1

NA Variable System

Exposure Field

 Installed , 0.50

22.0mm X 22.0mm

Reticle Size

6 Inch 

Reticle Library

9 Holds

Wafer Carrier Table

2 Carrier

Illumination Optical System

Yes

Field Image Alignment system

Yes

Laser Step Alignment system

Yes

Chip Leveling

Yes

Pre Alignment2

Wafer Alignment

Wafer Chuck

8-8 R-Type

Data Back up

Tape Driver


設(shè)備參數(shù)

No.

 

Item

Specification

Results

1

Resolution

0.55µm  L & S

 

2

Long Term Focus Stability

Within ±0.30um

 

3

Auto focus repeatability

±0.15um(25 points measurement using WAFLAT)

 

4

Focuscalibration repeatability

 

3s ≤0.15um(10 times measurement)

 

5

Lens Stability

Within 0.05um(3 days measurement)

 

6

Focus Calibration Repeatability

3s £ 100 nm

       nm

7

Lens Distortion

 

within≤ ±0.07um

min      max

X:         ~        ?     

Y:         ~        ?

8

Magnification Control Accuracy

within ±15 nm

H - I:                nm

 

C - I:                nm

9

Maximum Exposure Area

 22.0mm(hor.) x 22.mm

 

10

Reticle Blind Setting Accuracy

+0.4 mm to +0.8 mm

 Xp:     mm ; Xm     mm

 Yp:     mm ; Ym     mm

11

Exposure Power

3 550 mW/cm2

                 mW/cm2

12

Illumination Uniformity

Within ± 1.5%

 

13

FIA Telecem

±3 mrad

X:           mrad

Y:           mrad  

14

FIA Focus

±2 ?

X:           ?

Y:           ?

15

LSA Telecem

±3 mrad

X:           mrad

Y:           mrad  

16

LSA Focus

±2 ?

X:           ?

Y:           ?

17

Intergrated Exposure Stability

(1) within ±1.2%

(2) within ±0.5%

100:      mJ/cm2

200:      mJ/cm2

400:      mJ/cm2

800:      mJ/cm2

18

Wafer Holder Flatness

Within 1.5μm / 200mm

Max≤0.8um

Max – Min:1.5UM

Max :0.8UM

19

Chip Leveling

Within ±5 μrad

X :            Y:

R:             P:

20

Auto Focus Stability

Within  0.4 ? (range)

 

21

Reticle Rotation

Absolute value

Within ±0.02?

OF target value

Repeatability

Within 0.02?

Absolute value:

 

Repeatability:    

22

Array Orthogonality

Within ±0.1 sec

(ortmortm90)/2≤ ±0.3 urad

                  sec

ORTM:         μrad

ORTM90:         μrad

23

Stepping Precision

Within ±0.075? (3σ)   

3 Sigma X:

3 Sigma Y:

24

Overlay-LSA  

lXl+3σ<0.12?

X:          Y:

25

Overlay-FIA

lXl+3σ<0.12?

X:          Y:

26

WL Repeatability

Within 15? (3σ)

3 Sigma X:

3 Sigma Y:

3 Sigma T:

27

Lens Matching

|mean|+3s < 0.17um

 

28

Operational Test

(1)  Wafer System

(2)  Reticle System

 

(1)  Success rate: 3 99 %

(2)  Success rate: 100 %

 

          %

          %

二手翻新現(xiàn)貨Nikon步進(jìn)式光刻機(jī) NSR G8A 1臺,包含技術(shù)方案修改和售后服務(wù),同時為您提供整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的技術(shù)參考和方案設(shè)計(jì)。

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多功能食品安全檢測儀 ¥10000 濰坊市 山東宏微量子科技有限公司 2026-09-30 在線詢價(jià)
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