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尼康Nikon 二手翻新現(xiàn)貨i線步進式光刻機NSR-SF120

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面議
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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-05-27
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 所在地區(qū)青島市
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量441
  • 人氣值18010
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公司主營實驗室分析檢測儀器設(shè)備,以實驗室整體建設(shè)為發(fā)展方向。公司目前涉及電子電器、醫(yī)藥生物、石油化工、食品、機械、新材料、環(huán)境、科研高校等諸多領(lǐng)域。聯(lián)合山東醫(yī)藥化工設(shè)計院,美國安捷倫、美國熱電、日本島津、江蘇天瑞等眾多品牌及多個***重點實驗室從實驗室布局設(shè)計出圖、基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)、儀器設(shè)備供應(yīng)、方法開發(fā)建立、后期運營管理,形成完整的專業(yè)實驗室建設(shè)體系,達(dá)到一站式服務(wù),為眾多行業(yè)客戶提供更為*的整體解決方案。
公司主營產(chǎn)品分為四大類,光譜儀、色譜儀、質(zhì)譜儀和環(huán)境在線檢測。
能量色散X熒光光譜儀(EDX)、波長色散X熒光光譜儀(WDX)、等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)
、光電直讀光譜儀(OES)、原子吸收分光光度計(AAS)、原子熒光光譜儀(AFS)、拉曼光譜儀(Raman)、碳硫分析儀(CS)、紅外光譜儀、礦漿載流分析儀(OSA)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)、氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀(GC-MS)、液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀(LC-MS)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)、水質(zhì)在線分析儀(WAOL);
 

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這些i-line步進器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場大小,是曝光次臨界層的理想選擇,這些層大約占設(shè)備20層或更多層的一半
尼康Nikon 二手翻新現(xiàn)貨i線步進式光刻機NSR-SF120 產(chǎn)品詳情

這些i-line步進器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場大小,是曝光次臨界層的理想選擇,這些層大約占設(shè)備20層或更多層的一半。這些特性與高產(chǎn)量相結(jié)合,提供了成本性能和生產(chǎn)力的組合,有助于降低資本成本。

NSR-SF120的設(shè)計方式類似于掃描型KrF步進器NSR-S204B、NSR-S205C和NSR-S206D,以及ArF步進器NSR-S305B和NSR-S306C。新開發(fā)的高數(shù)值孔徑鏡頭使i-line分辨率飛躍至280 nm。該系統(tǒng)可以有效地暴露次臨界層以支持130-100 nm設(shè)備節(jié)點,同時為300 mm時代提供高吞吐量。尼康Nikon 二手翻新現(xiàn)貨i線步進式光刻機NSR-SF120

團隊介紹

ASML和NIKON光刻機的翻新改造、安裝調(diào)試及維護的核心技術(shù)能力。國內(nèi)完成過ArF, KrF, I Line, G Line全部光刻機工程案例的團隊。

針對12英寸及以下的不同尺寸(包括硅、碳化硅、氮化鎵、 藍(lán)寶石等)、不同掩模版尺寸的要求,可實現(xiàn)自主設(shè)計、 加工制造、集成調(diào)整的改造能力。

能夠進行包括光學(xué)系統(tǒng)在內(nèi)的全面翻新、調(diào)試、測試, 具備完整的運行保障能力,和備品備件的供應(yīng)。

針對不同產(chǎn)品(如MEMS、MICROLED、DMOS、CMOS 等),具備的工藝人才和技術(shù)基礎(chǔ),能夠針對不同的 產(chǎn)品特性進行設(shè)備選型、技術(shù)匹配及工藝試驗。

技術(shù)參數(shù)表

驗收項目 機型指標(biāo) 條件
☆最小解析線寬 0.30um 5pts V/H , resist thickness <1.0um
☆最小解析線寬UDOF UDOF 0.5um 5poits 0.35um L&S V/H full field guarantee
☆CD均勻性 ≤50nm 5points V/H: 0.35um L&S film thickness<1um
Focus calibration repeatability 3sig≤60nm 20 times measurement
☆鏡頭畸變  within ±25nm 37 pionts measurement
maximum area 25mm*33mm
reticle blind setting accuracy 0.4mm to 0.8mm
Exposure power ≥1200mw/cm2
Intergrated exposure control within ±1% Input time:100,200,400,800msec
☆光強均勻性Illumination uniformity within 1.5%  5 times measurement
Reticle rotation
(1) absolute value (2) repeatability
within 20nm With slow mode
☆對準(zhǔn)精度 Overlay accuracy (1)lsa-ega
(2)fia-ega
(1) 3sig ≤ 40nm (2) 3sig ≤ 40nm Overly of resist images
(1) lsa-ega 10piont shot center (2) fia-ega 10piont shot center
Array Orthogonality within ±0.1sec Average of 3 wafers
☆工作臺步進精度Stepping precision 3sig≤25nm Measured on 3 wafers
operational test
(1)wafer system (2)reticle system
(1) success rate 99% (2) success rate 99% (1)100 wafers 2nd exposure (2)3 times for every slot
Wafer pre-alignment 6inch:3sig≤15um 100times measurement Y,X,T
Focus stability MAX-MIN≤0.6um Continue 1week(5days)
magnification error within 15nm Make judgment from 3points 
☆Throughout
(1)lsa-ega
(2)fia-ega
(>72pcs/hr) 32shots(150mm,25pcs);130msec (1) lsa-ega 10 points
(2) fia-ega 10 points
☆像面傾斜度INC <0.25um 5 POINT V/H
Astigmatism total focus deviation 0.35um L&S ≤0.2um 5points V/H: 0.35um L&S film thickness<1um
Field Curvature ≤0.25um 5 points V/H
☆特殊照明方式RET 具備 具備Annual/Shrinc照明方式
Chip leveling accuracy within ±1.5sec 5 times measurement
Chuck Flatness Max-Min≤2.5um SEMI STD silicon wafer
Chuck TTV TTV within 1um Chuck specification report


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