關(guān)鍵詞：磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、金屬膜、氧化膜、約瑟夫森結(jié)、超導、量子器件、量子比特、

                多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system

                Evaporation system、Nb-based superconductor、超導鋁結(jié)、Josephson junction

產(chǎn)地：歐洲；     型號：MEB550；   應用：制備金屬膜、氧化膜，超導鋁結(jié)等

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備是量子器件制備中的儀器，用于制備各種高純金屬薄膜和氧化物薄膜。開展量子計算機實驗研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，超導量子結(jié)，量子點電子自旋的研究，均需要蒸鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來制備量子器件。此款高真空電子束蒸發(fā)鍍膜儀（HV E-beam evaporation system）得到科研工作者廣泛使用和推崇，并且具有良好的聲譽。利用上述配置，研究者可以制備各種高品質(zhì)和高度可重復性薄膜材料。

目前包括物理所、清華大學、哈爾濱工業(yè)大學、蘇州醫(yī)工所、長春光機所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關(guān)設備；在國際上也獲得了美國(Yale  Univ, Princeton  Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英國（Glasgow  Univ）、德國（KIT Karlsruhe, Dresden  Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo  Univ)、加拿大(Waterloo  Univ, Sherbrooke  Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN,  Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers  Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等國家的機構(gòu)的高度認可。

推薦配置：可以用于沉積幾乎任何金屬及氧化物薄膜，目前主要超導量子實驗室均使用該設備制備超導結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復性超導結(jié)。

全自動軟件包，支持半自動和手動模式，支持遠程網(wǎng)絡操作和維護。

典型用戶：耶魯大學、UCSB、普林斯頓大學、滑鐵盧大學、法國科學研究中心（CNRS）、格拉斯哥大學、日本NTT、清華大學等，歡迎咨詢！