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EVG810 LT 低溫鍵合 等離子活化系統(tǒng)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2026-07-20
  • 廠商性質其他
  • 所在地區(qū)上海
  • 實名認證已認證
  • 產品數量100
  • 人氣值2952
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應用:用于SOI,MEMS,化合物半導體和高級襯底鍵合的低溫鍵合等離子體活化系統(tǒng)一、簡介EVG810LT(LowTemp™)低溫鍵合等離子活化系統(tǒng)是一個單獨的單腔室系統(tǒng),具有手動操作功能
EVG810 LT 低溫鍵合 等離子活化系統(tǒng) 產品詳情

應用:用于SOI,MEMS,化合物半導體和高級襯底鍵合的低溫鍵合等離子體活化系統(tǒng)

一、簡介

EVG810 LT (LowTemp™)低溫鍵合等離子活化系統(tǒng)是一個單獨的單腔室系統(tǒng),具有手動操作功能。處理室允許非原位處理(晶片一個接一個地活化并且鍵合在等離子體活化室外部)。

二、特征

用于低溫鍵合的表面等離子體活化(熔合/分子和中間層鍵合)

任何晶圓鍵合機制的zui快動力學

無需濕法工藝

低溫退火時的zui高鍵合強度(zui高400°C)

適用于SOI,MEMS,化合物半導體和*封裝

高度的材料兼容性(包括CMOS)

三、參數

1.晶圓尺寸:50-200mm,100-300mm

2.低溫等離子活化腔:

工藝氣體:2種標準工藝氣體(N2和O2)

通用大流量控制器:自校準(高達20.000 sccm)

真空系統(tǒng):0.09 mbar

打開/關閉腔室:自動化

裝載/卸載腔室:手動(晶圓/基板放置在裝載銷上)

3.備選功能:

用于不同的晶圓尺寸的夾頭

金屬離子活化

帶有氣體混合的附加工藝氣體

帶渦輪泵的高真空系統(tǒng):0.009 mbar的基礎氣壓

4.符合LowTemp™等離子活化鍵合的材料系統(tǒng)

Si:Si / Si,Si / Si(熱氧化,Si(熱氧化)/ Si(熱氧化)

TEOS / TEOS(熱氧化)

絕緣體鍺(GeOI)的Si / Ge

硅/Si3N4

玻璃(無堿浮法):硅/玻璃,玻璃/玻璃

化合物半導體:GaAs,GaP,InP

聚合物:PMMA,環(huán)烯烴聚合物

用戶可以針對上述內容和其他材料使用“已知方法”配方(可根據要求提供完整列表)


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