光干涉透射法檢測元件厚度差的原理：
在激光干涉儀進行透射測量時，激光光源發(fā)出的單色光,垂直向下經(jīng)過被檢元件上、下兩表面被標準反射鏡反射后會形成干涉條紋，每個點上所生的干涉條紋取決于該點上兩相干的光的光程差。當光程差為nλ+0.5λ時，顯示為暗條紋；當光程差為nλ+λ時，顯示為亮條紋；
激光干涉儀其工作原理是將待測手機平板放于干涉儀的參考平面鏡和標準反射鏡中間，從標準參考鏡反射的光和標準反射鏡的光相干涉，干涉條紋則反映了手機面板攝像孔透射波前的好壞。
所以，當被檢元件的兩個面不平行，存在楔角時，沿楔角方向，元件的厚度逐漸增大，相應的光程差也逐漸變大，沿楔角方向就會產(chǎn)生間隔分布亮暗條紋。楔角越大，條紋越密集。
檢測指標的簡單說明：
PV值在數(shù)學上的定義是峰谷值( Peak to Valley),即值和最小值的差值。單位是λ(波長)。對應到干涉儀透射檢測上，就是被檢元件的厚度差。
RMS值在數(shù)學上的定義是均方根值(root-mean-square)，單位是λ(波長),這是一個統(tǒng)計值，RMS的大小反映了這些數(shù)據(jù)值的離散程度。對應到干涉儀透射檢測上，RMS值越小表明被檢元件的厚度平滑性越好，高低起伏越少。
條紋根數(shù)是肉眼可見的被檢元件厚度差的直觀表現(xiàn)，與PV值成線性關(guān)系。條紋根數(shù)越少表明被檢元件的厚度差越小。
技術(shù)參數(shù)：
在激光干涉儀進行透射測量時，激光光源發(fā)出的單色光,垂直向下經(jīng)過被檢元件上、下兩表面被標準反射鏡反射后會形成干涉條紋，每個點上所生的干涉條紋取決于該點上兩相干的光的光程差。當光程差為nλ+0.5λ時，顯示為暗條紋；當光程差為nλ+λ時，顯示為亮條紋；
激光干涉儀其工作原理是將待測手機平板放于干涉儀的參考平面鏡和標準反射鏡中間，從標準參考鏡反射的光和標準反射鏡的光相干涉，干涉條紋則反映了手機面板攝像孔透射波前的好壞。
所以，當被檢元件的兩個面不平行，存在楔角時，沿楔角方向，元件的厚度逐漸增大，相應的光程差也逐漸變大，沿楔角方向就會產(chǎn)生間隔分布亮暗條紋。楔角越大，條紋越密集。
檢測指標的簡單說明：
PV值在數(shù)學上的定義是峰谷值( Peak to Valley),即值和最小值的差值。單位是λ(波長)。對應到干涉儀透射檢測上，就是被檢元件的厚度差。
RMS值在數(shù)學上的定義是均方根值(root-mean-square)，單位是λ(波長),這是一個統(tǒng)計值，RMS的大小反映了這些數(shù)據(jù)值的離散程度。對應到干涉儀透射檢測上，RMS值越小表明被檢元件的厚度平滑性越好，高低起伏越少。
條紋根數(shù)是肉眼可見的被檢元件厚度差的直觀表現(xiàn)，與PV值成線性關(guān)系。條紋根數(shù)越少表明被檢元件的厚度差越小。
技術(shù)參數(shù)：
| 序號 | 名稱 | GBM01A |
| 1 | 測量原理 | 菲索干涉原理 |
| 2 | 激光器 | 半導體激光器 635nm |
| 3 | 有效孔徑 | 30mm （單孔單波段） |
| 4 | 標準鏡面形精度 | 0.05λ |
| 5 | 面形值重復精度 | PV 0.06λ(標準片) |
| 6 | 面形值量程 | PV 0～3λ |
| 7 | 測試時間 | PV測試：1秒；條紋數(shù)測試：1秒內(nèi) |
| 8 | 夾具 | 有 |
| 9 | 軟件 | 有 |
| 10 | 電源 | 220V 60W |
| 11 | 通訊接口 | USB |
| 12 | 重量 | 15Kg |
| 13 | 自動化接口 | 預留 |
儀器參數(shù)：
| 序號 | 名稱 | GBM01A |
| 1 | 測量原理 | 菲索干涉原理 |
| 2 | 激光器 | 半導體激光器 635nm |
| 3 | 有效孔徑 | 30mm （單孔單波段） |
| 4 | 標準鏡面形精度 | 0.05λ |
| 5 | 面形值重復精度 | PV 0.06λ(標準片) |
| 6 | 面形值量程 | PV 0～3λ |
| 7 | 測試時間 | PV測試：1秒；條紋數(shù)測試：1秒內(nèi) |
| 8 | 夾具 | 有 |
| 9 | 軟件 | 有 |
| 10 | 電源 | 220V 60W |
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