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公司介紹主營產品

深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年，由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦，團隊成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專業(yè)水準。公司致力于半導體微加工及分析設備的銷售和安裝服務，產品覆蓋薄膜制備，物性測量和表面分析。經營的主要產品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機和熱板等薄膜技術相關的設備；2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國MicroXact的真空、低溫和磁場等數(shù)種探針臺；3. 我們還提供上述設備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產品性價比高，品質精良，性能*，在歐美及中國臺灣地區(qū)具有的口碑，國內眾多的科研院所和大學均對我們的產品報以好評。我們期待以優(yōu)質的產品，良好的服務和專業(yè)的技術為更多的客戶提供解決方案！期待與您的合作！

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產品簡介在線詢價

化學氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)是指高溫環(huán)境下氣態(tài)反應劑在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程，廣泛應用于金屬、氧化物、氮化物及碳化物等無機薄膜的制備

化學氣相沉積（PECVD）產品詳情

化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)是指高溫環(huán)境下氣態(tài)反應劑在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程，廣泛應用于金屬、氧化物、氮化物及碳化物等無機薄膜的制備。PECVD(Plasma Enhanced CVD)是借助射頻使氣體電離產生局部等離子體，等離子體活性可有效促進反應，從而降低反應溫度，加快成膜速率。

技術參數(shù)：

1 基片尺寸可定制；

2 低溫工藝：< 150℃ / 350℃；

3 多層式工藝氣體導入，氣體分布均勻；

4 獨立MFC控制箱，可靈活擴充工藝氣路；

5 基片內鍍膜均勻性優(yōu)于 ±5%；

6 可與手套箱集成；

關鍵詞：手套箱

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產品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
熱墊式治療溫度測試裝置操作簡單	￥786000	菏澤市	山東賽銳特檢測儀器有限公司	2026-04-18	在線詢價
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PlasmaPro 1000	面議	上海	牛津儀器科技（上海）有限公司	2023-07-19	在線詢價
鈉離子濃度計型號：KG/DYI-A	面議	北京市	北京中慧天誠科技有限公司	2017-05-09	在線詢價

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