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公司介紹主營產(chǎn)品

北京埃光科技有限公司，簡稱“埃光科技”是一家專注于精密光電產(chǎn)品及服務(wù)的系統(tǒng)集成公司，創(chuàng)始團(tuán)隊(duì)有十多年的光電行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，對光電儀器上下游都有很深的理解。我們不僅經(jīng)營sCMOS，CCD，EMCCD，ICCD，高速相機(jī)，紅外相機(jī)，MCP探測器，光柵光譜儀，真空紫外-軟x射線光譜儀等多種光電產(chǎn)品，還和各個環(huán)節(jié)的供應(yīng)商密切合作，根據(jù)客戶應(yīng)用需求開發(fā)完整的解決方案，光電儀器是高度專業(yè)化碎片化的行業(yè)，我們將以客戶應(yīng)用為支點(diǎn)，串聯(lián)起行業(yè)上下游持續(xù)開發(fā)更*更專業(yè)的解決方案，協(xié)同高效發(fā)展以滿足高精尖光電研究分析儀器需求的增長。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

Model 207V是C-T結(jié)構(gòu)的真空紫外光譜儀，使用 120x140mm大光柵來優(yōu)化光通量至f/4.7。高質(zhì)量的主光學(xué)器件提供從105nm 真空紫外一直到紅外的性能。

Vacuum Compatible Czerny-Turner Monochromator 產(chǎn)品詳情

商品描述

掃描/結(jié)合CCD作為成像光譜儀

105 nm – LWIR波段范圍

潔凈的不銹鋼結(jié)構(gòu)

O-ring密封高真空10^-6torr

可定制支持UHV至10^-10torr

Model 207V由不銹鋼制成的穩(wěn)定儀器，適用于任何需要真空或吹掃條件的光譜技術(shù)。使用 120x140mm大光柵來優(yōu)化光通量至f/4.7。高質(zhì)量的主光學(xué)器件提供從105nm 真空紫外一直到紅外的性能。光學(xué)元件采用鋁和氟化鎂涂層，以獲得寬帶性能。也可以提供金或銀等涂層。

可以選擇適當(dāng)?shù)墓鈻鸥采w從 105nm 到 20um 的波長。 207 光學(xué)元件提供的光譜分辨率；安裝非球面光學(xué)元件用于光學(xué)成像。超大面積的聚焦鏡可減少強(qiáng)度損失，并將光譜傳送到 50 毫米的大焦平面。廣泛用于拉曼、光致發(fā)光、熒光、發(fā)射、反射和透射。

Model 207V PDF Data Sheet

Optical Design	McPherson Model 207 0.67-meter focal length f/4.7 Monochromator
Focal Length	0.67-meter, Czerny Turner design Spectrometer with Patented "Snap-In" gratings
f/no.	4.7 (5.8 with smaller grating)
Wavelength Range	refer to grating of interest for range, in extended position increase top limit 20%
Wavelength Accuracy	+/-0.05 nm (with 1200 G/mm grating)
Wavelength Reproducibility	+/- 0.005 nm (with 1200 G/mm grating)
Grating Size	120 x 140-mm (or 110 x 110-mm) - Echelle gratings up to 220-mm wide
Slit Locations	Axial and lateral with optional extra entrance and exit port selection mirrors
Focal Plane	50-mm maximum width, multiply dispersion by the width of your detector for range

Performance with various diffraction gratings:

Grating (G/mm) (others available)	3600	2400	1800	1200	600	300	150	75	20
Wavelength Range from 185-nm to	435nm	650nm	860nm	1.3um	2.6um	5.2um	10.4um	20.8um	78um
Resolution (nm)1	0.015	0.02	0.03	0.04	0.08	0.16	0.32	0.64	2.4
Dispersion (nm/mm)	0.42	0.62	0.83	1.24	2.48	4.96	9.92	19.84	74.4
First Order Littrow Blaze (nm)2	Holo	240nm	Holo	250nm	300nm	750nm	1.25um	2.0um	45um
		300nm		300nm	500nm	1.0um	2.5um	3.0um

		Holo		500nm	750nm	3.0um	4.0um	8.0um

				750nm	1.0um	4.0um	6.0um	10.0um

				1.0um	1.85um		8.0um	12.0um

1. Tested in scanning mode at 312/313 nanometers with 10 micron wide slits and at slowest aperture ratio
2. Gratings work best from 2/3 blaze wavelength to 3/2 blaze wavelength

關(guān)鍵詞：光譜儀

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