光學(xué)系統(tǒng)

 曝光時間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)；

 365-400nm光強(qiáng)傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán)；

 聲控功率警報裝置可防止系統(tǒng)功率超過設(shè)定指標(biāo)；

 有安全保護(hù)裝置的溫度及其氣流傳感器；

 全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度；

 波長濾片檢查及安裝裝置；

 抗衍射反射功能高效反光鏡；

 二向色的防熱透鏡裝置；

 防汞燈泄漏裝置；

 配備蠅眼棱鏡裝置；

 配備近紫外光源，

    --220 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 8-10 mW/ cm2

    --254 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 12-14 mW/ cm2

    --365 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 18-20 mW/ cm2

    --400 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 30-35 mW/ cm2

主要配置:

 6”，8”光源系統(tǒng)

 可支持2”，3”，4”，6”，8”（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤設(shè)計(jì)）

 手動系統(tǒng)，半自動系統(tǒng),

 支持電源350-2000 Watt

 支持深紫外近紫外波長（可選項(xiàng)）<1.84度；

 CCD或顯微鏡對準(zhǔn)系統(tǒng)

主要性能指標(biāo)：

 光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity:

    --<±1% over 2” 區(qū)域

    --<±2% over 4” 區(qū)域

    --<±2.5% over 6” 區(qū)域

 接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um

 接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um

 支持接近式曝光，特征尺寸CD:

    --0.8um 硬接觸

    --1um 20 um 間距時

    --2um 50um 間距時

 正面對準(zhǔn)精度±0.5um

 支持正膠、負(fù)膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um

 支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻

 支持真空、接近式、接觸式曝光

 支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式